[发明专利]一种8管双分裂控制存储单元、存储阵列及存内计算装置有效

专利信息
申请号: 202011054193.0 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN112185447B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 乔树山;史万武;尚德龙;周玉梅 申请(专利权)人: 中科南京智能技术研究院
主分类号: G11C11/414 分类号: G11C11/414;G11C11/416;G11C11/413
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 崔玥
地址: 211100 江苏省南京市江宁*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 分裂 控制 存储 单元 阵列 计算 装置
【说明书】:

发明涉及一种8管双分裂控制存储单元、存储阵列及存内计算装置,包括PMOS管T1、PMOS管T2、NMOS管T3、NMOS管T4、NMOS管T5、NMOS管T6、NMOS管T7、NMOS管T8、位线BL、位线BLB、读字线RWL、读位线RBL、字线WL1、字线WL2、公共接地线VSS1和公共接地线VSS2,采用两个T7管、T8管的NMOS串联实现权重和输入乘积的计算方式,将模拟计算结果在读位线上进行模拟累计,最后将模拟电压通过ADC数字化输出,简化了计算方式,节省了计算面积。

技术领域

本发明涉及存储单元技术领域,特别是涉及一种8管双分裂控制存储单元、存储阵列及存内计算装置。

背景技术

随着医疗电子、可穿戴设备和物联网等低功耗应用的快速发展,功耗取代性能逐步成为芯片设计中最受关注的指标。其中,静态随机存储器(Static Random AccessMemory,SRAM)对芯片面积和功耗有着至关重要的影响。因此,降低SRAM功耗成为优化芯片整体功耗的关键所在。低电压技术通过降低电源电压能显著减小功耗,因此该技术被广泛应用于低功耗SRAM的设计领域。

然而,工艺偏差恶化、晶体管失配加剧、漏电比例增大等问题在低电压区域不可避免,从而导致SRAM面临单元噪声容限下降、整体时序紊乱等严峻问题,使其不能稳定工作。

传统的6管SRAM通常采用字线电压欠驱动(WLUD)方案来抑制读写周期中的半选择(HS)干扰,但以降低单元读取电流(ICELL)和降低写入余量(WM)为代价。

发明内容

基于此,本发明的目的是提供一种8管双分裂控制存储单元、存储阵列及存内计算装置,将计算结果在读位线上进行模拟累计,简化了计算方式。

为实现上述目的,本发明提供了如下方案:

一种8管双分裂控制存储单元,所述8管双分裂控制存储单元包括PMOS管T1、PMOS管T2、NMOS管T3、NMOS管T4、NMOS管T5、NMOS管T6、NMOS管T7、NMOS管T8、位线BL、位线BLB、读字线RWL、读位线RBL、字线WL1、字线WL2、公共接地线VSS1和公共接地线VSS2;

所述PMOS管T1和所述PMOS管T2的源极均连接VDD电源;

所述PMOS管T1的栅极、所述NMOS管T3的栅极、所述PMOS管T2的漏极、所述NMOS管T4的漏极、所述NMOS管T6的源极和NMOS管T7的栅极共点连接;

所述PMOS管T2的栅极、所述NMOS管T4的栅极、所述PMOS管T1的漏极、所述NMOS管T3的源极和所述NMOS管T5的源极共点连接;

所述NMOS管T3的源极连接所述公共接地线VSS1,所述NMOS管T4的源极连接所述公共接地线VSS2;

所述NMOS管T5的栅极连接所述字线WL1,所述NMOS管T5的漏极连接所述字线WL1,所述NMOS管T6的栅极连接所述字线WL2,所述NMOS管T6的漏极连接位线BLB;

所述NMOS管T7的漏极与所述NMOS管T8的源极连接,所述NMOS管T8的栅极连接所述读字线RWL,所述NMOS管T8的漏极连接所述读位线RBL。

本发明还公开了一种存储阵列,所述存储阵列包括矩阵式排列的多个所述的8管双分裂控制存储单元;

各行所述8管双分裂控制存储单元中,各所述NMOS管T5的栅极共线连接,各所述NMOS管T6的栅极共线连接,各所述NMOS管T3的源极共线连接,各所述NMOS管T3的源极共线连接,各所述NMOS管T8的栅极均与所述读字线RWL连接;

各列所述8管双分裂控制存储单元中各所述NMOS管T8的漏极均与所述读位线RBL连接。

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