[发明专利]一种抗潮解的Y2

权利要求书

1.一种抗潮解的Y₂O₃基复合薄膜结构，其特征在于，所述复合薄膜结构包括将预设的单层Y₂O₃薄膜厚度均等分为n+1层后，每相邻层Y₂O₃薄膜间插入的由(Y₂O₃)_x(Al₂O₃)_1-x薄膜构成的渐变层；

所述复合薄膜结构为：

Sub//(z₁H y₁M)ⁿz₁H/Air；

其中，Sub代表ZnS窗口材料，H代表Y₂O₃薄膜材料，M代表复合渐变层(Y₂O₃)_x(Al₂O₃)_1-x，n代表引入的复合渐变层层数，Air代表空气，z₁、y₁代表对应膜层的光学厚度系数，且(n+1)×z₁＝z₀，y₁＝0.02～0.08；z₀为单层Y₂O₃薄膜光学厚度系数，对于3.7～4.8μm波段区间，z₀＝0.9～1.1；对于7.5～9.7μm波段区间，z₀＝1.9～2.5；单位光学厚度为λ₀/4，λ₀＝4.0μm。

2.根据权利要求1所述的抗潮解的Y₂O₃基复合薄膜结构，其特征在于，所述n取值为1～5。

3.根据权利要求1或2所述的抗潮解的Y₂O₃基复合薄膜结构，其特征在于，所述渐变层为(Y₂O₃)_x(Al₂O₃)_1-x薄膜，其中x＝0.2～0.8。

4.一种抗潮解的Y₂O₃基复合薄膜结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法将预设的单层Y₂O₃薄膜厚度均等分为n+1层，且在每相邻层Y₂O₃薄膜间插入由(Y₂O₃)_x(Al₂O₃)_1-x薄膜构成的渐变层；所述制备方法包括如下步骤：

步骤S1，根据基底及入射光波长，确定单层Y₂O₃薄膜的光学厚度；

步骤S2，选择预插入渐变层层数n，将所述单层Y₂O₃薄膜的光学厚度均等分为n+1层，计算每层Y₂O₃薄膜层及渐变层预定厚度；

步骤S3，将无油污、尘粒、擦痕的基底放入真空度小于8×10^-2Pa的真空室内烘烤；再打开冷凝泵，对真空室抽真空至6.0×10^-4Pa；

步骤S4，采用等离子束对基底进行预清洗；

步骤S5，采用物理气相沉积法在所述基底上蒸镀第i层预定厚度的Y₂O₃薄膜层；i初始值为1；i＜n+1时，进入步骤S6；i＝n+1时，进入步骤S7；

步骤S6，通过共蒸发的方式，生长制备复合渐变层(Y₂O₃)_x(Al₂O₃)_1-x薄膜；i＝i+1；转入步骤S5；

步骤S7，对真空室降温至低于80℃时，取出薄膜样品。