[发明专利]一种打印头模组和喷墨打印方法在审

专利信息
申请号: 202011044177.3 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112123948A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 闫莹 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: B41J3/407 分类号: B41J3/407;B41J2/07;B41J2/11;B41J29/00;B41M5/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 何志军
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 打印头 模组 喷墨 打印 方法
【说明书】:

本申请公开了一种打印头模组,在打印平台控制系统的控制下对基板进行喷墨打印,所述打印头模组包括:打印喷头、高度检测传感器、反馈系统;所述打印头模组通过所述高度检测传感器测量得到所述打印喷头与所述基板之间的距离,通过所述打印喷头与所述基板之间的距离来调节打印墨水喷吐时间,以减少打印误差。本申请还公开了一种利用打印头模组的喷墨打印方法。本申请提供的打印头模组能够根据打印过程中由于基板与打印喷头之间的实际距离调节打印墨水喷吐时间,减少打印误差。

技术领域

本申请涉及OLED技术领域,尤其涉及喷墨打印技术领域,具体涉及一种打印头模组和喷墨打印方法。

背景技术

OLED的发展趋势向着喷墨打印的方向进行,喷墨打印是将打印墨水一滴一滴地滴入像素定义层凹槽内,然后干燥、烘烤成膜;因此打印位置的准确性及精度要求很高。

玻璃的膨胀系数以及玻璃基板支撑的平整度对打印精度也有很大影响。为减少墨滴不均匀以及提高玻璃基板支撑的平整度一些打印机台采用气浮的方式支撑玻璃基板。气浮装置虽然能够抵消玻璃重力但无法控制基板由于膜层之间的应力产生的翘曲。较大的翘曲度在打印是会造成相应的误差。

因此,亟待提供一种打印头模组,可以改善打印过程中由于基板与打印喷头之间距离的变化而产生的打印误差。

发明内容

本申请实施例提供一种打印头模组和喷墨打印方法,利用本申请的打印头模组在打印前扫描基板与打印喷头之间的高度,反馈给打印平台控制系统,进而调节打印墨水喷吐时间,减少打印误差。

本申请实施例提供一种打印头模组,在打印平台控制系统的控制下对基板进行喷墨打印,所述打印头模组包括:打印喷头、高度检测传感器、反馈系统;

所述打印头模组通过所述高度检测传感器测量得到所述打印喷头与所述基板之间的距离,通过所述打印喷头与所述基板之间的距离来调节打印墨水喷吐时间,以减少打印误差。

在一些实施例中,所述打印头模组还包括墨水循环系统、喷墨控制系统。

在一些实施例中,所述打印头模组还包括控温系统。

在一些实施例中,所述高度检测传感器在打印前测量所述基板与所述打印喷头之间的高度。

在一些实施例中,所述反馈系统将所述打印喷头和所述基板之间的高度反馈给所述打印平台控制系统,然后通过所述喷墨控制系统的计算,调节打印墨水喷吐时间,以减少打印误差。

在一些实施例中,所述高度检测传感器与所述打印喷头的相对位置固定。

在一些实施例中,所述高度检测传感器通过激光测量得到与基板的距离,从而得到所述打印喷头与所述基板的相对距离。

在一些实施例中,所述高度检测传感器还具有基板杂质检测功能,在测量高度的同时检测所述基板上是否有大颗粒杂质存在,以减少所述基板的损坏及所述打印喷头的风险。

在一些实施例中,将所述高度检测传感器测得的数据导入所述喷墨控制系统中的打印算法中,计算后通过所述墨水循环系统控制墨滴喷吐时间,改善打印误差。例如,所述打印喷头距离所述基板的高度增大,则墨滴下落时间变长,所述打印喷头则需要更早的进行墨水的喷吐(时间补偿),以保证墨水可以准确的滴落在指定位置;反之,所述打印喷头距离所述基板的高度减小,则墨滴下落时间变短,所述打印喷头则需要更晚的进行墨水的喷吐,以保证墨水可以准确的滴落在指定位置。

本申请实施例提供一种利用上述打印头模组的喷墨打印方法,包括如下步骤:

将基板送入打印机台并置于打印平台上,通过所述高度检测传感器检测所述基板不同位置与打印喷头之间的实际距离;同时,通过所述高度检测传感器检查是否有大颗粒杂质存在,记录数据点位,以避免打印过程中对所述基板和所述打印喷头造成损坏,提升打印良率;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011044177.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top