[发明专利]一种耐酸碱型减粘胶带的制作方法

说明书

本发明提供一种耐酸碱型减粘胶带的制作方法，将耐酸的UV减粘组合物涂布在第一离型膜上，将涂布有耐酸的UV减粘组合物的第一离型膜放入烘箱烘干，在烘干后的胶体上覆上第二离型膜，其特征在于，所述耐酸的UV减粘组合物按照以下步骤进行：一、准备聚合单体；二、预制反应体系，将聚丙烯酸酯压敏胶粘剂、聚合单体、固化剂和溶剂按比例混合搅拌均匀，同时用分散机持续搅拌；三、添加光引发剂，遮光环境下在反应体系中加入光引发剂，此过程中分散机持续搅拌；四、后处理，引发剂添加完成后将分散机的转速调到400‑600rpm/min转速，并持续搅拌15‑60min，最后静置30min以上自然消泡，得到耐酸的UV减粘组合物。按照此方法制作的减粘胶带具有较好的耐酸碱性能。

技术领域

本发明涉及减粘胶带的制作方法，尤其涉及一种耐酸碱型减粘胶带的制作方法。

背景技术

半导体是家用数码产品及电子器件的关键部件。在大规模集成电路的制造和半导体器件的制造加工过程中，必不可少的基础材料是半导体芯片。在电子产品制作过程中，如贴片电子元器件片式电感制程中的定位切割，半导体晶片表面加工，电子及光电产业部件制作加工工程，晶片研磨、切割、各种硅片、封装基板、陶瓷、玻璃、水晶精细电子零件的承载加工和各种材质的微小零件的加工切割，加工完毕后，再把加工好的晶圆切片从固定胶膜上完全剥离下来，不影响晶圆材料本身，减粘膜就是其中一种辅材。

目前市场上的减粘保护膜多为UV减粘保护膜，是指在UV照射前具有高度粘合力，贴附性好，在UV照射后粘合力明显下降，易于剥离。但在电子工业生产过程中，有部分包含酸碱的制程，如触控面板制程中，玻璃之间需要经过碱液喷淋或浸泡、晶圆的化学镀UBM工艺，这些生产过程中都需要经历严苛的酸碱环境，而目前的UV减粘保护膜对这些酸碱环境足够的耐受性。

发明内容

针对上述背景技术中提到的问题，本发明涉及一种耐酸碱型减粘胶带的制作方法，将耐酸的UV减粘组合物涂布在第一离型膜上，将涂布有耐酸的UV减粘组合物的第一离型膜放入烘箱烘干，在烘干后的胶体上覆上第二离型膜，其特征在于，所述耐酸的UV减粘组合物按照以下步骤进行：

一、准备聚合单体，将5份丙烯酸、20份丙烯酸甲酯、60份丙烯酸异辛酯、10份丙烯酸丁酯、2.5份丙烯酸羟乙酯、2.5份丙烯酸羟丁酯按照比例混合均匀；

二、预制反应体系，将聚丙烯酸酯压敏胶粘剂、聚合单体、固化剂和溶剂按比例混合搅拌均匀，同时用分散机持续搅拌；

三、添加光引发剂，遮光环境下在反应体系中加入光引发剂，此过程中分散机持续搅拌；四、后处理，引发剂添加完成后将分散机的转速调到400-600rpm/min转速，并持续搅拌15-60min，最后静置30min以上自然消泡，得到耐酸的UV减粘组合物。

进一步的，所述丙烯酸压敏胶粘剂主要由丙烯酸，丙烯酸甲酯，丙烯酸羟乙酯，丙烯酸羟丁酯，丙烯酸异辛酯，偶氮二异丁氰通过溶剂聚合的方式进行聚合生产。

进一步的，所述第一离型膜与所述第二离型膜都采用PET材料制成膜状基材。

进一步的，所述光引发剂为自由基光引发剂。

进一步的，所述烘箱为一种热风烘箱，所述涂布有耐酸的UV减粘组合物的第一离型膜耐酸的UV减粘组合物朝上经过所述烘箱时，烘箱对第一离型膜的下表面以及有耐酸的UV减粘组合物同时吹送干燥的热风进行烘干，在加快烘干速度的同时保证耐酸的UV减粘组合物与第一离型膜同时涨缩，防止耐酸的UV减粘组合物在第一离型膜的表面发生位移。

进一步的，所述耐酸的UV减粘组合物在遮光环境下涂在第一离型膜，所述涂布有耐酸的UV减粘组合物的第一离型膜在烘箱内进行烘干时保持遮光状态，所述涂布有耐酸的UV减粘组合物的第一离型膜烘干后在遮光环境下覆上第二层离型膜。