[发明专利]低温等离子体多处理对象实验平台及其处理方法

权利要求书

1.低温等离子体大气及材料多功能处理实验平台，包括空压机（101）、冷凝干燥机（102）、多个过滤器（103）、防爆气瓶柜（104）、高压减压阀（105）、管式炉（106）、加湿器（107）、气体处理DBD反应器（108）、板式DBD反应器（115）、高压电源（113）和升压变压器（114），其特征在于：所述空压机（101）经管道与冷凝干燥机（102）的进风口连接，所述冷凝干燥机（102）的进风口处和出风口处均设有过滤器（103）；所述冷凝干燥机（102）出风口处的过滤器（103）经管道连接高压减压阀（105）；所述高压减压阀（105）经具有阀门和三通的管路后再通过法兰与管式炉（106）的进口管路连接；所述防爆气瓶柜（104）内设有储存气体的气瓶；所述防爆气瓶柜（104）内的气瓶经管道连接有具有多路减压阀和质量流量计的控制板（117），控制板（117）输出经三通后与管式炉（106）进口管路的法兰连接；所述管式炉（106）的出口管路经法兰连接有具有手动阀的进气管道（109）；所述加湿器（107）经管道与进气管道（109）连接，所述进气管道（109）分别与气体处理DBD反应器（108）和板式DBD反应器（115）连接；所述气体处理DBD反应器（108）和板式DBD反应器（115）分别连接升压变压器（114），升压变压器（114）与高压电源（113）连接；所述板式DBD反应器（115）放置在密封的箱体（116）内；

所述气体处理DBD反应器（108）包括框体（1），框体（1）两端对称设有固定板（2），所述固定板（2）上设有多个固定盖（3）；所述框体（1）两端对应的固定盖（3）之间设有DBD单管（4），所述DBD单管（4）包括设置在固定盖（3）之间且呈套筒状的阻挡介质层（5），阻挡介质层（5）的外壁上套设有外电极（6），阻挡介质层（5）的中部设有端部固定在固定盖（3）上的内电极（7），内电极（7）与阻挡介质层（5）之间的空隙形成流通管道（8），其特征在于：所述DBD单管（4）按从左往右、从上往下依次分为第一DBD管（9）、第二DBD管（10）、第三DBD管（11）和第四DBD管（12）；每个DBD单管（4）端部连接的固定盖（3）的外侧设有第一气路连接座（13），第一气路连接座（13）上设有第一气路快插接头（14）；所述固定板（2）的外侧设有进出气罩（15），进出气罩（15）上设有四个第二气路快插接头（16），所述第一DBD管（9）的两端均通过第一气路快插接头（14）和第二气路快插接头（16）连接有第一五通接头（17），第一五通接头（17）连接有第一气管（24）；所述第二DBD管（10）的两端均通过第一气路快插接头（14）和第二气路快插接头（16）连接有第一四通接头（18），第一四通接头（18）连接有第二气管（19）；所述第三DBD管（11）的两端均通过第一气路快插接头（14）和第二气路快插接头（16）连接有第二四通接头（22），第二四通接头（22）连接有第三气管（23）；所述第四DBD管（12）的两端均通过第一气路快插接头（14）和第二气路快插接头（16）连接有第二五通接头（20），第二五通接头（20）连接有第四气管（21）；所述的第一五通接头（17）经管路分别与同一侧的第一四通接头（18）、第二五通接头（20）和第二四通接头（22）连接；所述第一四通接头（18）和第二四通接头（22）通过管路分别与第二五通接头（20）连接；所述第一气管（24）、第二气管（19）、第三气管（23）、第四气管（21）以及管路上均设有手动阀（45）；

所述第一气管（24）和第二气管（19）一同连接有第一三通接头（46）；所述第四气管（21）和第三气管（23）一同连接有第二三通接头（47）；所述第一三通接头（46）和第二三通接头（47）经管路一同连接有第三三通接头（48）。

2.根据权利要求1所述的低温等离子体大气及材料多功能处理实验平台，其特征在于：所述高压减压阀（105）的出口连接有第一流量计（110）；所述控制板（117）上设有第二流量计（111）。

3.根据权利要求1所述的低温等离子体大气及材料多功能处理实验平台，其特征在于：所述的进气管道（109）内设有温湿度传感器。

4.根据权利要求1所述的低温等离子体大气及材料多功能处理实验平台，其特征在于：所述管式炉（106）连接有温控仪（112）。