[发明专利]湿法清洗设备的清洗液导流装置在审
申请号: | 202011015020.8 | 申请日: | 2020-09-24 |
公开(公告)号: | CN114256085A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 周健刚 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 张彦敏 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 湿法 清洗 设备 导流 装置 | ||
1.一种湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,包括:
喷嘴,用于喷出清洗液对晶背进行清洗,喷嘴位于晶圆的晶背侧;以及
一正电压端和一负电压端,正电压端和负电压端位于晶背侧,并分别位于喷嘴两侧,用于对喷嘴喷出的清洗液施加一电场,而使在喷嘴喷出清洗液时,清洗液与晶背之间的夹角可控。
2.根据权利要求1所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,喷嘴位于晶背的中心位置。
3.根据权利要求1所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,正电压端与负电压端形成的电场为静电场。
4.根据权利要求1所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,还包括电压变换单元,其输入端连接输入电压源,用于接收一输入电压,其正输出端连接所述正电压端,其负输出端连接所述负电压端,用于将输入电压变换成输出电压,而将输出电压施加于所述正电压端与所述负电压端之间。
5.根据权利要求4所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,所述输出电压包括多个脉冲电压,每一所述脉冲电压具有高电平和低电平,其中在喷嘴喷出清洗液时,脉冲电压为高电平,在喷嘴喷出清洗液之后切换为低电平。
6.根据权利要求4所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,所述输出电压包括多个脉冲电压,每一所述脉冲电压具有高电平和低电平,其中在喷嘴开始喷出清洗液之前,脉冲电压为高电平,在喷嘴喷出清洗液之后切换为低电平。
7.根据权利要求5或6任一项所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,不同脉冲电压的高电平的电压值不同。
8.根据权利要求5或6任一项所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,所述脉冲电压为一瞬间脉冲电压。
9.根据权利要求5或6任一项所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,电压变换单元包括一开关单元,通过控制开关单元的占空比控制脉冲电压的高电平的值及高电平的持续时间。
10.根据权利要求1所述的湿法清洗设备的清洗液导流装置,其特征在于,输入电压源及电压变换单元为湿法清洗机台自带的电压源和电压变换单元。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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