[发明专利]可见光激发双模式长余辉碳点复合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202011008933.7 申请日: 2020-09-23
公开(公告)号: CN112143492B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 孙向英;何维 申请(专利权)人: 华侨大学
主分类号: C09K11/65 分类号: C09K11/65;C09K11/02;A61B5/1172
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭;秦彦苏
地址: 362000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 可见光 激发 双模 余辉 复合物 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种可见光激发双模式长余辉碳点复合物在潜在指纹识别中的应用,所述可见光激发双模式长余辉碳点复合物为CDs/B2O3复合物,其特征在于:所述可见光激发双模式长余辉碳点复合物的制备方法包括:

1)按照100 mg:20 mL的配方比例,将藏红T完全溶解于0.5 M氢氧化钠溶液中,在200℃下水热反应5小时后,获得CDs溶液;

2)按照2000 μL:2 g的配方比例取步骤1)制得的CDs溶液与硼酸,加入至水中,在密封容器中充分混合,得到CDs与硼酸的混合溶液;

3)将步骤2)中得到的CDs与硼酸的混合溶液置于180 ℃反应5小时后,冷却至室温,得到CDs/B2O3复合物。

2.根据权利要求1所述的可见光激发双模式长余辉碳点复合物在潜在指纹识别中的应用,其特征在于:所述步骤1)中,通过超声使藏红T完全溶解;所述步骤2)中,通过超声以充分混合CDs与硼酸;所述步骤3)中,冷却至室温后,将产物研磨成粉末,得到CDs/B2O3复合物粉末。

3.根据权利要求1所述的可见光激发双模式长余辉碳点复合物在潜在指纹识别中的应用,其特征在于:所述步骤1)中,水热反应在衬有聚四氟乙烯的高压釜中进行;所述步骤2)中,容器用锡箔纸密封;所述步骤3)中,反应在烘箱内进行。

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