[发明专利]水平液相外延石墨舟、生长系统、外延方法和生长方法有效

专利信息
申请号: 202010994740.7 申请日: 2020-09-21
公开(公告)号: CN112080796B 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 北京智创芯源科技有限公司
主分类号: C30B19/06 分类号: C30B19/06;C30B19/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆英静
地址: 100095 北京市北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 水平 外延 石墨 生长 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种水平液相外延石墨舟,包括滑条(200)和母液槽(100),所述滑条(200)上设置有用于放置衬底的衬底槽(201),所述母液槽(100)设置有用于放置碲镉汞母液的母液滞留槽(103),其特征在于,所述水平液相外延石墨舟还包括:

至少一个设置于所述母液槽(100)上的刮除装置(101),拉动所述滑条(200)至第一预设位置时,所述刮除装置(101)能够刮除所述滑条(200)上滞留的母液;以及

至少一个设置于所述母液槽(100)上的吸收装置(102),拉动所述滑条(200)至第二预设位置时,所述吸收装置(102)能够吸收所述滑条(200)上滞留的母液;并且拉动所述滑条(200)时,所述滑条(200)先滑动至所述衬底槽(201)与所述母液滞留槽(103)对中的位置,再滑动至所述第一预设位置,最后滑动至所述第二预设位置;

所述刮除装置(101)包括至少一个刮片(1011)和至少一个用于放置所述刮片(1011)的刮片放置槽(1012),所述刮片放置槽(1012)设置于所述母液滞留槽(103)的一侧,所述刮片(1011)垂直于所述滑条(200)放置并与所述滑条(200)接触;

所述吸收装置(102)包括至少一个吸片(1021)和至少一个用于放置所述吸片(1021)的吸片放置槽(1022),所述吸片放置槽(1022)设置于所述刮片放置槽(1012)远离所述母液滞留槽(103)的一侧,所述吸片(1021)垂直于所述滑条(200)放置并与所述滑条(200)接触。

2.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,在平行于所述滑条(200)所在平面的截面上,所述刮片(1011)的长度大于所述衬底槽(201)的长度。

3.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,所述刮片(1011)为长方形,所述刮片放置槽(1012)为与所述刮片(1011)配合的长方形槽。

4.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,所述刮片(1011)的数量为两个,分别为第一刮片和第二刮片;

所述刮片放置槽(1012)的数量为两个,分别为第一刮片放置槽(1012-a)和第二刮片放置槽(1012-b),所述第一刮片放置于所述第一刮片放置槽(1012-a),所述第二刮片放置于所述第二刮片放置槽(1012-b)。

5.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,在平行于所述滑条(200)所在平面的截面上,所述吸片(1021)的长度大于所述衬底槽(201)的长度。

6.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,所述吸片(1021)为长方形,所述吸片放置槽(1022)为与所述吸片(1021)配合的长方形槽。

7.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,所述吸片(1021)的数量为四个,分别为第一吸片、第二吸片、第三吸片和第四吸片;

所述吸片放置槽(1022)的数量为四个,分别为第一吸片放置槽(1022-a)、第二吸片放置槽(1022-b)、第三吸片放置槽(1022-c)和第四吸片放置槽(1022-d),所述第一吸片放置槽(1022-a)、所述第二吸片放置槽(1022-b)、所述第三吸片放置槽(1022-c)和所述第四吸片放置槽(1022-d)连通;

所述第一吸片放置于所述第一吸片放置槽(1022-a),所述第二吸片放置于所述第二吸片放置槽(1022-b),所述第三吸片放置于所述第三吸片放置槽(1022-c),所述第四吸片放置于所述第四吸片放置槽(1022-d)。

8.根据权利要求1所述的水平液相外延石墨舟,其特征在于,所述吸片(1021)采用碲化汞或者碲锌镉原切片材料制造。

9.一种水平液相外延生长系统,其特征在于,包括如权利要求1至8任一项所述的水平液相外延石墨舟。

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