[发明专利]一种掩膜版的制作方法及彩膜基板的制作工艺

权利要求书

1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：提供一第一透明衬底基板，在第一透明衬底基板的一侧面制作透过率为5-15%的第一光阻层用于彩膜基板的遮光层制作；

S2：蚀刻所述第一光阻层形成黑矩阵层以预留第一通孔，所述第一通孔对应彩膜基板中彩色色阻层的位置；

S3：先在黑矩阵层上开第一全透孔，再在黑矩阵层的外表面制作透过率为15%-40%的第二光阻层，用于彩膜基板的主柱状隔垫物和辅柱状隔垫物的制作；

S4：在第二光阻层和黑矩阵层上开第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作，此时第一全透孔由于第二光阻层的遮挡作用形成半透孔，用于彩膜基板的辅柱状隔垫物的制作。

2.如权利要求1所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一全透孔的透光率由掩膜版的四周边界向中心处递减。

3.如权利要求1所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述主柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值，所述辅柱状隔垫物的顶部尺寸和底部尺寸的差值小于或等于预设阈值。

4.如权利要求1所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一光阻层所采用的材质为铬膜或者铬的化合物，所述第二光阻层所采用的材质为铬膜或者铬的化合物。

5.如权利要求4所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一光阻层和第二光阻层的制作具体为：在第一透明衬底基板的一侧面形成铬膜层，再进行PR涂布，使用背面曝光技术进行激光雕刻，再对铬膜层进行湿法刻蚀。

6.如权利要求1所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述第一透明衬底基板的材质为石英玻璃基板。

7.如权利要求1所述的一种掩膜版的制作方法，其特征在于，所述掩膜版的厚度为5-20mm。

8.一种彩膜基板的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

step1：提供一第二透明衬底基板；

step 2：在第二透明衬底基板的一侧面利用权利要求1-7任一项所述的掩膜版同时制作遮光层、主柱状隔垫物层和辅柱状隔垫物层，其中遮光层开设有预留红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻的第二通孔；

step 3：在第二透明衬底基板设有遮光层、主柱状隔垫物层和辅柱状隔垫物层的一侧面上依次制作红色色阻、绿色色阻、以及蓝色色阻。

9.如权利要求8所述的一种彩膜基板的制作工艺，其特征在于，步骤step 2中，制作所述遮光层、主柱状隔垫物层和辅柱状隔垫物层为在第二透明衬底基板上涂布光阻材料，所述光阻材料为正性光刻胶材料，再利用掩膜版对光阻材料进行曝光，所采用的曝光机为投影式曝光机，通过紫外线对光阻材料进行曝光，对曝光后的光阻材料进行显影，得到彩色色阻，显影后对彩色色阻层进行烘烤。

10.如权利要求8所述的一种彩膜基板的制作工艺，其特征在于，在步骤step 3之后，还包括对彩膜基板进行平坦层的制作。