[发明专利]用于过程窗口表征的设备和方法有效
| 申请号: | 202010981365.2 | 申请日: | 2016-12-08 |
| 公开(公告)号: | CN112198762B | 公开(公告)日: | 2023-09-19 |
| 发明(设计)人: | 王德胜;万翔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 过程 窗口 表征 设备 方法 | ||
1.一种获得用于对图案化过程进行质量评定的检查部位的方法,所述方法包括:
由一台或更多台计算机,利用多种不同的模拟来模拟所述图案化过程,每一个模拟依据所述图案化过程的不同过程特性,并且每一个模拟应用图案中的特征;
针对不同的模拟中的每一个模拟,检测在相应的模拟结果中相应的模拟指示是不可接受的特征;和
基于检测到的特征来选择所述特征的子集。
2.如权利要求1所述的方法,其中,基于检测到的特征来选择所述特征的子集包括:
基于所述模拟结果中相应的特征对过程特性的变化的灵敏度来选择特征。
3.如权利要求1-2中任一个所述的方法,其中,基于检测到的特征来选择所述特征的子集包括:
基于针对于相应的特征产生不可接受的模拟结果的、所述模拟中的过程特性的变化量来选择检测到的特征中的至少一些。
4.如权利要求1-3中任一个所述的方法,包括:
针对所述过程特性的变化中的每一个,通过利用电子束检查工具检测图案化结构而在对应的检查部位处确定所述特征的子集中的至少一些是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构;和
基于特征的子集中的至少一些是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构来确定用于所述图案化过程的过程窗口的至少一部分,
其中,在依据变化的过程特性对一个或更多个衬底进行图案化之前在不将图案化过程居中的情况下确定所述过程窗口的至少一部分。
5.如权利要求1-3中任一个所述的方法,包括:
依据变化的过程特性对一个或更多个衬底进行图案化。
6.一种方法,包括:
获得用于图案的检查部位,所述图案限定待利用图案化过程施加到衬底上的特征,所述检查部位对应于所述图案的特征,所述特征是根据相应的特征对所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化的灵敏度而从所述特征之中选择的;和
针对所述过程特性的变化中的至少一些,在对应的检查部位处确定所述特征是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构。
7.如权利要求6所述的方法,其中,获得所述检查部位包括:
由一台或更多台计算机,利用多种不同的模拟来模拟所述图案化过程,每一个模拟依据不同的过程特性;
针对不同的模拟中的每一个模拟,检测在相应的模拟结果中相应的模拟指示是不可接受的特征;和
基于检测到的特征来选择所述特征。
8.如权利要求7所述的方法,其中,模拟包括:
获得与所述图案对应的掩模版的设计布局;
获得光刻设备的参数;
选择用于模拟的所述图案化过程的过程特性的集合;和
由一台或更多台计算机,利用具有所获得的参数的光刻设备并依据所选择的过程特性的集合来估计衬底上的图案化结构的尺寸。
9.一种用于存储指令的有形的、非暂时性机器可读媒介,所述指令在由数据处理设备执行时被配置成使得所述数据处理设备至少:
获得用于图案的检查部位,所述图案限定待利用图案化过程施加到衬底上的特征,所述检查部位对应于所述图案的特征,所述特征是根据相应的特征对所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化的灵敏度而从所述特征之中选择的;
依据所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化根据被光学或物理图案化的一个或更多个衬底获得测量结果;和
针对所述一个或更多个过程特性的变化中的至少一些并基于所述测量结果,在对应的检查部位处确定所述特征是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构。
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