[发明专利]图像传感器及包括其的照相设备有效
申请号: | 202010974466.7 | 申请日: | 2020-09-16 |
公开(公告)号: | CN113347326B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
发明(设计)人: | 林成祐 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司 |
主分类号: | H04N23/54 | 分类号: | H04N23/54;H04N23/55;H04N23/67 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘久亮;黄纶伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像传感器 包括 照相 设备 | ||
1.一种图像传感器,该图像传感器包括:
多个成像像素,所述多个成像像素检测入射光以产生表示由所述入射光携带的图像的像素信号;
第一相位差检测像素,所述第一相位差检测像素位于所述多个成像像素当中并且包括在第一方向上移位第一位移距离的光接收区域;以及
第二相位差检测像素,所述第二相位差检测像素位于所述多个成像像素当中并且包括在与所述第一方向相反的第二方向上移位第二位移距离的光接收区域,
其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素被构造为检测入射光的相位差信息以用于控制入射光在所述成像像素处的聚焦以由所述成像像素进行图像感测,并且所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个在所述光接收区域中包括被构造为部分地覆盖所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个的微透镜的抗反射层。
2.根据权利要求1所述的图像传感器,其中,所述抗反射层包括多个纳米图案。
3.根据权利要求2所述的图像传感器,其中,所述多个纳米图案中的每一个具有在向上方向上逐渐减小的截面积。
4.根据权利要求1所述的图像传感器,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个包括与所述光接收区域相邻布置的光阻挡区域以部分地阻挡光。
5.根据权利要求4所述的图像传感器,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个在所述光阻挡区域中包括被构造为部分地覆盖所述微透镜的光阻挡层。
6.根据权利要求4所述的图像传感器,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个在所述光阻挡区域中包括设置在滤光器下方的光阻挡层。
7.根据权利要求1所述的图像传感器,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个具有与所述光接收区域相邻布置的副光接收区域。
8.根据权利要求7所述的图像传感器,其中,包括在所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素的每一个中的所述抗反射层设置在所述光接收区域和所述副光接收区域中的所述光接收区域中。
9.根据权利要求7所述的图像传感器,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个在所述副光接收区域中包括光迟滞层,所述光迟滞层包括在所述微透镜的上方比所述微透镜具有更高折射率的材料。
10.根据权利要求1所述的图像传感器,其中,所述光接收区域占据所述微透镜的面积的一半。
11.一种照相设备,该照相设备包括:
图像传感器,所述图像传感器包括第一相位差检测像素和第二相位差检测像素,所述第一相位差检测像素被构造为包括在第一方向上移位第一位移距离的光接收区域,并且所述第二相位差检测像素被构造为包括在与所述第一方向相反的第二方向上移位第二位移距离的光接收区域;
焦点检测器,所述焦点检测器被配置为基于所述第一相位差检测像素的第一相位差检测信号和所述第二相位差检测像素的第二相位差检测信号来计算散焦值;以及
镜头驱动器,所述镜头驱动器被配置为依据所述散焦值来调整设置在所述图像传感器前方的镜头的位置,
其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个在所述光接收区域中包括被构造为部分地覆盖所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个的微透镜的抗反射层。
12.根据权利要求11所述的照相设备,其中,所述第一相位差检测像素和所述第二相位差检测像素中的每一个包括与所述光接收区域相邻布置的光阻挡区域。
13.根据权利要求12所述的照相设备,其中,所述焦点检测器通过比较所述第一相位差检测信号的图案和所述第二相位差检测信号的图案来计算散焦值。
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