[发明专利]高精度抗干扰的VR系统、运行方法有效
申请号: | 202010973572.3 | 申请日: | 2020-09-16 |
公开(公告)号: | CN112214106B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 张秀志;周宏伟;柳光辉;郭衡江 | 申请(专利权)人: | 青岛小鸟看看科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/01 | 分类号: | G06F3/01;G06T7/246 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 郭曼 |
地址: | 266100 山东省青岛市崂山区松*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高精度 抗干扰 vr 系统 运行 方法 | ||
本发明提供一种高精度抗干扰的VR系统,包括数据选择模块、头戴和与头戴相匹配的手柄,数据选择模块用于根据光学FOV范围选择调用光学追踪模组和电磁追踪模组;光学追踪模组包括设置在手柄中的光学显示模块和设置在头戴上的光学追踪模块,其中,光学显示模块用于通过调整自身亮灭和亮度发出物理信号;光学追踪模块用于获取光学显示模块发出的物理信号,并将物理信号转化为手柄的追踪信息;电磁追踪模组包括设置在手柄上的电磁发射模块和设置在头戴上的电磁接收模块,其中,电磁发射模块用于通过驱动电路产生电磁信号,并发射电磁信号,电磁接收模块用于接收电磁信号,以完成电磁追踪。
技术领域
本发明涉及计算机视觉领域,更为具体地,涉及一种VR设备管理方法、系统。
背景技术
目前在VR视觉领域,现有的All-in-one VR 6DOF一体机设计中,大部分支持头部6DOF追踪,通过光学、超声波、电磁等方案判断头戴与手柄的相对位置关系,在当前头戴的基础上,通过相对关系的映射,把手柄的位置转换成手柄的世界坐标系,以上方案中,采用光学追踪存在FOV的限制,采用超声波追踪存在FOV限制、外界反射、遮挡等干扰问题,采用电磁追踪方案同样存在外界磁场干扰问题,现有产品应用中还不存在能够有效解决上述问题的解觉方案。
因此,亟需一种能够既解决光学FOV较小的问题,又解决在磁场强度较大时电磁手柄不能使用的问题的高精度抗干扰的VR系统、运行方法。
发明内容
鉴于上述问题,本发明的目的是提供一种高精度抗干扰的VR系统,解决现有的All-in-one VR 6DOF一体机设计若采用光学追踪存在FOV的限制,若采用超声波追踪存在FOV限制、外界反射、遮挡等干扰问题,若采用电磁追踪方案同样存在外界磁场干扰问题,从而导致VR系统的抗干扰能力差、精度低。
本发明提供的一种高精度抗干扰的VR系统,包括数据选择模块、头戴和与所述头戴相匹配的手柄,其中,
所述数据选择模块用于根据光学FOV范围选择调用光学追踪模组和电磁追踪模组;
所述光学追踪模组包括设置在所述手柄中的光学显示模块和设置在所述头戴上的光学追踪模块,其中,
所述光学显示模块用于通过调整自身亮灭和亮度发出物理信号;
所述光学追踪模块用于获取所述光学显示模块发出的物理信号,并将所述物理信号转化为所述手柄的追踪信息;
所述电磁追踪模组包括设置在所述手柄上的电磁发射模块和设置在所述头戴上的电磁接收模块,其中,
所述电磁发射模块用于通过驱动电路产生电磁信号,并发射所述电磁信号;
所述电磁接收模块用于接收所述电磁信号,以完成电磁追踪。
优选地,所述光学追踪模块包括头戴摄像头和参数调整模块,其中,
所述头戴摄像头用于追踪所述手柄和外部环境;
所述参数调整模块用于调整所述头戴摄像头的曝光参数、对齐各个头戴摄像头的曝光中心点,以及预设所述头戴摄像头的追踪规则;
所述追踪规则包括:所述头戴摄像头所获取图像的奇数帧用于追踪外部环境;所述头戴摄像头所获取图像的偶数帧用于追踪所述手柄。
优选地,在所述头戴和手柄中均设置有IMU传感器模块,用于获取所述头戴与所述手柄的追踪信息及位置预测信息,所述IMU传感器模块至少包括重力加速度传感器和陀螺仪;
并且,所述头戴中的IMU传感器模块还用于对所述曝光参数进行调整辅助;所述手柄中的IMU传感器模块还用于根据预测的手柄的追踪信息选择所述光学显示模块的亮灭,调节所述光学显示模块的亮度。
优选地,还包括无线传输模组,
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