[发明专利]ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法在审
| 申请号： | 202010969350.4 | 申请日： | 2020-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN112079378A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 丁金铎;葛春桥;崔恒;柳春锡;金志洸;王梦涵 | 申请（专利权）人： | 中山智隆新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C01G19/00 | 分类号： | C01G19/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 广东科信启帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44710 | 代理人： | 吴少东 |
| 地址： | 528400 广东省中山市板芙镇居委会*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ito 高纯 纳米 氧化 铟锡粉 体制 方法 | ||
1.ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
a、将草酸铟(In2(C2O4)3)和草酸锡(Sn(C2O4)2)按照7.7～8.7：1的质量比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液；或将乙酸铟(In(C2H3O2)3)和乙酸锡(Sn(C2H3O2)4)按照11.4～12.4：1的质量比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液；
b、将尿素或碳酸铵或碳酸氢铵溶解于上述去离子水中形成透明的水溶液其浓度为0.4～0.8mol/L；
c、将上述两种溶液混合后转入反应釜中，然后将反应釜置入烘箱中进行水热反应制备纳米氧化锡铟粉体。
2.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的水热反应温度：60～150℃，反应时间：30min～5h。
3.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的铟盐与锡盐水溶液的浓度分别为0.05～0.5mol/L与0.005～0.02mol/L。
4.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的铵盐水溶液的浓度为0.08～0.6mol/L。
5.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的草酸铟(In2(C2O4)3)和草酸锡(Sn(C2O4)2)按照8.19：1或7.7：1或8.7：1的比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液。
6.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的乙酸铟(In(C2H3O2)3)和乙酸锡(Sn(C2H3O2)4)按照11.89：1或11.4：1或12.4：1的比例溶解于去离子水中形成透明的水溶液。
7.根据权利要求1所述的ITO靶材高纯纳米氧化铟锡粉体制造方法，其特征在于，所述的尿素或碳酸铵或碳酸氢铵溶解于上述去离子水中形成透明的水溶液其浓度为0.4或0.6或0.8mol/L。
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