[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基底层；

金属层，所述金属层设置在所述基底层上；

无机保护层，所述无机保护层设置在所述金属层背离所述基底层的一面；

偏光片，所述偏光片设置在所述无机保护层背离所述金属层的一面；

其中，所述无机保护层用于阻挡所述偏光片中的挥发物质渗透至所述金属层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：有机保护层；所述有机保护层设置在所述无机保护层和所述偏光片之间，或所述有机保护层设置在所述金属层和所述无机保护层之间。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基底层包括：

封装层，所述封装层设置在所述金属层背离所述无机保护层的一面；

器件层，所述器件层设置在所述封装层背离所述金属层的一面；

背板层，所述背板层设置在所述器件层背离所述封装层的一面。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括：第一无机层、有机层和第二无机层；所述有机层设置在所述第一无机层和所述第二无机层之间；所述第一无机层设置在所述有机层和所述器件层之间；

所述无机保护层在所述有机层上的正投影与所述第二无机层在所述有机层上的正投影重合。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：阻挡层、桥接层和绝缘层；

所述阻挡层设置在所述基底层上；

所述桥接层设置在所述阻挡层背离所述基底层的一面，并设置在所述阻挡层和所述金属层之间；

所述绝缘层间隔设置在所述桥接层背离所述阻挡层的一面，与所述金属层同层设置；

所述金属层设置在相邻所述绝缘层之间，并在所述绝缘层背离所述桥接层的一面覆盖所述绝缘层。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机保护层的材料包括：氮化硅、氧化硅或氮氧化硅中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机保护层的厚度为100nm-300nm。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的显示面板。

9.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

制备基底层；

在所述基底层上形成金属层；

采用气相沉积法在所述金属层背离所述基底层的一面沉积无机保护层；

在所述无机保护层背离所述金属层的一面形成偏光片。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备基底层，包括：

提供背板层；

在所述背板层上形成器件层；

在所述器件层背离所述背板层的一面放置封装层，得到所述基底层；其中，所述封装层的制备方法包括：提供有机层，在所述有机层的第一面形成第一无机层；在所述有机层的第二面采用第一掩模板，利用所述气相沉积法形成第二无机层；

则所述采用气相沉积法在所述金属层背离所述基底层的一面沉积无机保护层，包括：采用所述第一掩模板，利用所述气相沉积法在所述金属层背离所述基底层的一面沉积无机保护层。