[发明专利]一种厚铜线路板的制作方法在审

专利信息
申请号: 202010965836.0 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN111988918A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 李清华;艾克华;牟玉贵;杨海军;胡志强;张仁军 申请(专利权)人: 四川英创力电子科技股份有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 成都巾帼知识产权代理有限公司 51260 代理人: 邢伟
地址: 629000 四川省遂*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 铜线 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种厚铜线路板的制作方法,S1、在紫铜带上制作单面线路层,在蚀刻过程中确保蚀刻的深度为紫铜带厚度的一半;S2、取用两张蚀刻有单面线路层的紫铜带,将两张紫铜带的单面线路层相对立放置,将叠好的复合板放入到热压炉中,通过热压炉对复合板进行压合,一段时间的热压后即可制得双面厚铜板;S3、在蚀刻工序处理中,使双面厚铜板上下表面的蚀刻位置与步骤S1中的蚀刻位置上下对应,同时蚀刻深度为紫铜带的残余厚度,确保蚀刻露出PP介质层;S4、将多张双面厚铜板依次重叠,通过热压炉的压合最后制得成品多层厚铜板。本发明的有益效果是:将厚铜蚀刻和压合填胶分成两次进行,减小了厚铜板加工的蚀刻难度和压合填胶难度。

技术领域

本发明涉及电子元器件加工制造中厚铜线路板的技术领域,特别是一种厚铜线路板的制作方法。

背景技术

目前,随着我国汽车电子以及电源通讯模块的快速发展,对印制板的电流承载能力和散热能力的要求越来越高。印制电路板将不仅要为电子元器件提供必要的电气连接以及机械支撑,同时也逐渐被赋予了更多的附加功能,因而能够将电源集成、承载大电流、减少热应变,提高散热性能、具有高可靠性的厚铜印制板逐渐成为PCB行业研发的热门产品,前景广阔。但是由于其超厚的铜厚,造成加工过程中存在较多的困难,比如压合过程中易因填胶不足产生空洞;蚀刻过程中因铜厚较大需要多次加工影响生产效率同时易出现线幼等缺陷。为改善厚铜制作的难度并且避免上述提到的品质隐患,因此亟需一种厚铜线路板的制作方法。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种制作工艺简单、降低压合填胶难度、降低了蚀刻难度的厚铜线路板的制作方法。

本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种厚铜线路板的制作方法,它包括以下步骤:

S1、在紫铜带上制作单面线路层,将紫铜带依次通过开料、钻孔、贴干膜、曝光、显影、蚀刻以及退膜工序处理,以在紫铜带的顶面上加工出单面线路层;其中在蚀刻工序处理中,将紫铜带顶表面采用干膜对其进行部分覆盖,以露出待蚀刻的部位,同时将紫铜带底表面采用干膜对其进行全部覆盖,将整个紫铜带送入蚀刻槽内,蚀刻槽内的蚀刻液对紫铜带顶表面露出的部分进行蚀刻,在蚀刻过程中蚀刻的深度为紫铜带厚度的一半;

S2、取用两张蚀刻有单面线路层的紫铜带,将两张紫铜带的单面线路层相对立放置,并且在两张紫铜带之间放置一层PP介质层,然后将叠好的复合板放入到热压炉中,通过热压炉对复合板进行压合,一段时间的热压后即可制得双面厚铜板;

S3、将热压后的双面厚铜板依次通过钻靶孔、贴膜、曝光、显影、蚀刻以及退膜工序处理,以在制作双面厚铜板的上下表面均加工出双面厚铜线路层,从而加工出具有双面厚铜线路层的双面厚铜板,其中,在曝光工序处理中,使用靶孔做定位孔,同时确保双面厚铜板上下表面的曝光位置与步骤S1中的曝光位置上下对应;在蚀刻工序处理中,使双面厚铜板上下表面的蚀刻位置与步骤S1中的蚀刻位置上下对应,同时蚀刻深度为紫铜带的残余厚度,确保蚀刻露出PP介质层;

S4、重复步骤S2~S3以制作出多张具有双面厚铜线路层的双面厚铜板,将多张双面厚铜板依次重叠,并在相邻两个双面厚铜板之间放置一层PP介质层,随后在位于最顶部的双面厚铜板的顶部放置一层制作有单面线路层的紫铜带,同时在位于最底部的双面厚铜板的底部放置一层制作有单面线路层的紫铜带,将叠好后的复合板送入到热压炉内,通过热压炉的压合最后制得成品多层厚铜板。

所述步骤S2中,要求压合后,PP介质层与紫铜带之间不能存在空洞。

所述步骤S4中,要求压合后,PP介质层与紫铜带之间不能存在空洞。

本发明具有以下优点:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川英创力电子科技股份有限公司,未经四川英创力电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010965836.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top