[发明专利]一种气相沉积制备热管的方法有效

专利信息
申请号: 202010948931.X 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN112126928B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 朱艳杰;朱胜利;王宏华 申请(专利权)人: 安徽德诠新材料科技有限公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/58;C23C16/26;C23C16/56;C22C19/03;F28D15/02
代理公司: 成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙) 51250 代理人: 田高洁
地址: 233000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 沉积 制备 热管 方法
【权利要求书】:

1.一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,所述方法包括:

1)利用气相沉积的方式在热管内表面沉积制备混合金属沉积层;

2)对热管进行热处理,对热管内壁的混合金属沉积层进行烧结形成混合金属层;

3)再次采用气相沉积的方式,在混合金属层表面沉积石墨烯,形成石墨烯层;

4)对石墨烯层进行预氧化,即得到热管;

步骤1)所述混合金属沉积层中含有铜和镍;所述混合金属沉积层中镍的含量为58~66.5wt%,余量为铜和不可避免的杂质;

步骤2)所述热处理于非氧化性气氛中进行,设定热处理温度为600℃及以上,保温30~40min后降温至320~335℃,保温1~2h;

步骤4)所述预氧化为:置于含有氧气的气氛中,60~70℃保温160~180min。

2.根据权利要求1所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

步骤1)所述气相沉积为真空溅镀。

3.根据权利要求2所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

真空溅镀参数为:设定磁控靶功率为40~120W,本底真空度为3.0×10-4~5.0×10-4Pa,氩气流量为15~20mL/min,压强为1.0~1.5Pa。

4.根据权利要求3所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

所述真空溅镀分为铜溅镀、铜镍溅镀和镍溅镀三个阶段;

铜溅镀过程采用铜金属作为靶材进行溅镀,铜靶功率为40~45W;

铜镍溅镀过程采用铜镍合金作为靶材进行溅镀,靶功率为80~85W;

镍溅镀过程采用镍金属作为靶材进行溅镀,镍靶功率为115~120W。

5.根据权利要求1所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

步骤3)所述气相沉积为化学气相沉积。

6.根据权利要求5所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

所述化学气相沉积为:设定本底真空度为0.8~1.0×10-4Pa,升温至940~960℃后,通入碳源气体并控制压强稳定在10~12Pa,保持11~13s。

7.根据权利要求1所述的一种气相沉积制备热管的方法,其特征在于,

所述热管为压扁型超薄铜管;所述压扁型超薄铜管的厚度≤2mm。

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