[发明专利]导电铜排、挂架组件以及电镀设备

权利要求书

1.一种导电铜排，所述导电铜排用于和挂架同步运动时与垂直连续电镀线导电铜排接触导电，其特征在于，所述导电铜排包括：

固定端，所述固定端上形成有固定孔，所述固定端通过所述固定孔与所述挂架固定连接；

凹槽，所述凹槽设置于所述固定端的一端；

至少两个接触凸台，所述接触凸台设置于所述凹槽中，用于与所述垂直连续电镀线导电铜排接触导电，以增加导电铜排与所述垂直连续电镀线的导电铜排的接触点位；其中，所述接触凸台的接触平面与所述固定端保持平齐。

2.根据权利要求1所述的导电铜排，其特征在于，所述接触凸台的厚度设置为5mm。

3.根据权利要求1所述的导电铜排，其特征在于，所述固定孔设置有多个。

4.根据权利要求1所述的导电铜排，其特征在于，所述接触凸台边缘与所述凹槽边缘之间设置有一定间距。

5.根据权利要求4所述的导电铜排，其特征在于，所述接触凸台与所述固定端与凹槽连接的一端之间设置有一定间距。

6.根据权利要求5所述的导电铜排，其特征在于，所述间距设置为5mm。

7.根据权利要求1所述的导电铜排，其特征在于，所述接触凸台设置有缓冲机构。

8.一种挂架组件，其特征在于，所述挂架组件包括挂架和导电铜排，所述导电铜排通过固定孔固定在所述挂架上，所述导电铜排为权利要求1-7任一所述的导电铜排。

9.一种电镀设备，其特征在于，所述电镀设备包括挂架组件、驱动组件以及垂直连续电镀线导电铜排，所述挂架组件固定在所述驱动组件上，与所述驱动组件同步运动，运动过程中与所述垂直连续电镀线导电铜排相接触导电，所述挂架组件为权利要求8所述的挂架组件。