[发明专利]一种复合涂层及其制备方法和应用在审
申请号: | 202010942973.2 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN111926292A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 张笑;李伟 | 申请(专利权)人: | 上海仟纳真空镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34;C23C14/02 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 刘奇 |
地址: | 201100 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种复合涂层,其特征在于,包括依次层叠设置的TiN层、AlTiN层、AlTiSiN层和V掺杂的AlTiSiN层。
2.如权利要求1所述的复合涂层,其特征在于,所述V掺杂的AlTiSiN层中V的掺杂量为4~8at.%。
3.如权利要求1所述的复合涂层,其特征在于,所述复合涂层的厚度为2.0~4.5μm;
所述TiN层、AlTiN层和AlTiSiN层的厚度独立为200~400nm。
4.权利要求1~3任一项所述的复合涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
在基体的表面依次溅射TiN层、AlTiN层、AlTiSiN层和V掺杂的AlTiSiN层,得到所述复合涂层。
5.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,进行所述溅射前,对所述基体进行清洗;
所述清洗包括依次进行的超声波清洗和离子清洗。
6.如权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述超声波清洗的频率为15~30kHz,时间为5~10min;
所述离子清洗在真空条件下进行,真空度为2~4Pa;
所述离子清洗采用的气体为Ar气,功率为80~100W。
7.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,溅射所述TiN层、AlTiN层和AlTiSiN层的功率独立为80~120W,时间独立为5~8min。
8.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,溅射所述V掺杂的AlTiSiN层的功率为180~200W,时间为60~120min。
9.如权利要求4或7或8所述的制备方法,其特征在于,溅射所述TiN层、AlTiN层、AlTiSiN层和V掺杂的AlTiSiN层时,靶材直径为75mm,总气压范围独立为0.4~0.8Pa;
Ar气流量独立为20~40sccm,N2流量独立为20~40sccm,靶基距独立为4~8cm。
10.权利要求1~3任一项所述的复合涂层或权利要求4~9任一项所述的制备方法制备得到的复合涂层在刀具中的应用。
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