[发明专利]一种薄膜的激光修补方法

权利要求书

1.一种薄膜的激光修补方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、提供一薄膜，并获取所述薄膜中的膜层对两个以上不同波长的激光源的吸收度，得到第一吸收度集合；

S2、在所述第一吸收度 集合中选取所述薄膜中的最顶层吸收度大于最底层吸收度的元素，得到第二吸收度集合；

S3、在所述第二吸收度 集合中选取所述薄膜中的最底层吸收度最小的元素，得到第三吸收度集合；

S4、根据所述第三吸收度集合选取对应的激光源；

S5、将步骤S4中选取的激光源置于薄膜上方对薄膜进行激光修补处理；

所述薄膜的结构包括目标层、中间层和底层，所述目标层为透明金属层，所述中间层为氮化层，所述底层为金属层；

若激光源的波长范围为100nm-400nm，则目标层对激光源的吸收度为65％，第一底层对激光源的吸收度为0％，第二底层对激光源的吸收度为35％；

或所述薄膜的结构包括目标层、中间层和底层，所述目标层为金属层，所述中间层为氮化层，所述底层为透明金属层；

若激光源的波长范围为505nm-566nm，则目标层对激光源的吸收度为43％，中间层对激光源的吸收度为0％，底层对激光源的吸收度为8％。

2.根据权利要求1所述的薄膜的激光修补方法，其特征在于，步骤S5具体为：

将步骤S4中选取的激光源置于薄膜上方；

根据薄膜的膜层结构，对薄膜进行两次以上的激光修补处理且每次激光修补处理采用不同的脉冲值。

3.根据权利要求2所述的薄膜的激光修补方法，其特征在于，还包括以下步骤：

若对薄膜进行两次激光修补处理，则第一次提供第一脉冲值对薄膜进行激光修补处理，第二次提供第二脉冲值对薄膜进行激光修补处理；所述第一脉冲值大于第二脉冲值。

4.根据权利要求2所述的薄膜的激光修补方法，其特征在于，还包括以下步骤：

若对薄膜进行三次激光修补处理，则第一次提供第一脉冲值对薄膜进行激光修补处理，第二次提供第二脉冲值对薄膜进行激光修补处理，第三次提供第三脉冲值对薄膜进行激光修补处理；所述第二脉冲值和第三脉冲值均小于第一脉冲值且所述第二脉冲值与第三脉冲值相等。