[发明专利]二恶英类化合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种二恶英类化合物，其特征在于，所述二恶英类化合物的通式为：

其中，X为O、S或NR，R、R1、R2、R3各自独立的为氢、氘、卤素、氰基、硝基、C₁～C₄₀的烷基、C₂～C₄₀的烯基、C₂～C₄₀的炔基、C₃～C₄₀的环烷基、C₃～C₄₀的杂环烷基、C₆～C₆₀的芳基、C₅～C₆₀的杂芳基、C₁～C₄₀的烷氧基、C₆～C₆₀的芳氧基、C₃～C₄₀的烷基甲硅烷基、C₆～C₆₀的芳基甲硅烷基、C₁～C₄₀的烷基硼基、C₆～C₆₀的芳基硼基、C₆～C₆₀的芳基亚膦基、C₆～C₆₀的单或二芳基膦基或C₆～C₆₀的芳基胺基；

L表示直接键合，或L为取代或未取代的C₆～C₆₀亚芳基，或L为包含有第一杂原子的C₂～C₆₀的杂芳基，

A的通式为

其中，Ar1和Ar2各自独立的为取代或未取代的芳基、苯基、联苯基或含有第二杂原子的杂环基，B为O、S或Se；

X1、X2和X3为分别C或N且至少之一为N，R4、R5和R6各自独立的为C₅～C₃₀的芳族或杂芳族环体系。

2.根据权利要求1所述的二恶英类化合物，其特征在于，R4、R5和R6中的至少之一可被R3取代。

3.根据权利要求1所述的二恶英类化合物，其特征在于，所述第一杂原子为N、O、S和Si中的至少之一。

4.根据权利要求1所述的二恶英类化合物，其特征在于，所述第二杂原子为N、O和S中的至少之一。

5.根据权利要求1所述的二恶英类化合物，其特征在于，R4、R5和R6中的至少之一含有第三杂原子，第三杂原子为N、S和B中的至少之一。

6.根据权利要求5所述的二恶英类化合物，其特征在于，键合到同一所述第三杂原子上的第一基团和第二基团通过单键连接，或所述第一基团和所述第二基团通过B(R3)、C(R3)₂、Si(R3)₂、C＝O、C＝NR3、C＝C(R3)₂、O、S、S＝O、SO₂、N(R3)、P(R3)或P(＝O)R3的桥连连接。

7.根据权利要求6所述的二恶英类化合物，其特征在于，所述第一基团和所述第二基团各自独立的为苯基、芳基或烷基。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的二恶英类化合物，其特征在于，所述二恶英类化合物可为

9.一种权利要求1-8中任一项所述的二恶英类化合物的制备方法，其特征在于，包括：

与中间物反应得到所述二恶英类化合物。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，制备所述二恶英类化合物的步骤为：

11.一种电子传输层，其特征在于，包括1-8中任一项所述的二恶英类化合物。