[发明专利]一种纳米陶瓷化前处理装置

权利要求书

1.一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：包括打磨单元和夹持单元，所述打磨单元位于所述夹持单元的上方，所述打磨单元包括第一驱动机构和第一打磨块，所述第一驱动机构用于驱动所述第一打磨块竖向、水平、前后移动；所述第一打磨块为倒置的L型结构，所述第一打磨块用于打磨金属板材的前、后、左、右侧；所述夹持单元包括支撑机构和两组夹持打磨机构，所述支撑机构包括第一驱动部和用于支撑金属板材的支撑块，所述第一驱动部用于支撑所述支撑块并能够带动支撑块竖向往复移动；两组所述夹持打磨机构分别设于所述支撑单元的左右两侧；每组所述夹持打磨机构包括第二驱动部、第二打磨块、固定部和移动部；所述第二打磨块用于对金属板材进行夹持和打磨，所述第二打磨块远离金属板材的一侧设有水平的滑槽，所述滑槽内滑动连接有滑杆，所述第二驱动部用于驱动所述滑杆转动以及靠近或远离所述金属板材移动；所述固定部用于将所述滑杆固定在所述滑槽内，所述移动部用于驱动所述第二打磨块相对于所述滑杆滑动；所述滑槽的两侧设有限位块。

2.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述第一驱动机构包括机架、竖向移动部、水平移动部和前后移动部，所述前后移动部设于机架上，所述前后移动部用于驱动竖向移动部前后移动，所述竖向移动部用于驱动水平移动部和所述第一打磨块竖向往复移动，所述水平移动部包括第一驱动件、圆柱凸轮、连杆和限位杆，所述竖向移动部与所述连杆固定，所述第一驱动件固定在连杆上并用于驱动所述圆柱凸轮转动，所述圆柱凸轮上设有封闭的曲线凹槽，所述曲线凹槽内滑动连接有移动杆，所述移动杆与所述第一打磨块固定；所述限位杆固定在所述连杆上，所述限位杆上设有限位槽，所述移动杆水平滑动连接在所述限位槽内。

3.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述固定部包括连通柱、第一固定杆和第二固定杆，所述滑槽内设有凹槽，所述连通柱的一侧水平固定在所述滑杆的内部，第一固定杆密封水平滑动连接在连通柱的该侧，所述第一固定杆能够伸入所述凹槽内；所述凹槽内固定有电磁铁，所述电磁铁与外界电源电连接；所述第一固定杆靠近凹槽的一侧设为铁块，所述铁块和通电的电磁铁相互排斥；所述第一固定杆远离所述凹槽的一侧与所述连通柱之间固定有第一弹簧，第一弹簧能够使第一固定杆伸入凹槽内，所述第一固定杆和铁块能够完全位于所述连通柱内；所述连通柱的另一侧位于所述滑杆外且与金属板材正对，所述第二固定杆密封竖向滑动连接在所述连通柱的该侧，所述第一固定杆与所述连通柱之间固定有第二弹簧，所述第二固定杆能够对所述金属板进行按压固定。

4.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述移动部包括第二驱动件和齿轮，所述第二驱动件固定在所述滑杆上且用于驱动所述齿轮正反转，所述滑杆上设有与齿轮啮合的齿条，所述齿条的长度方向为滑槽的长度方向。

5.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述第一驱动部包括第三驱动件和竖向的限制槽，所述第三驱动件固定在限制槽内，所述支撑块竖向滑动连接在所述限制槽内。

6.根据权利要求3所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述第二固定杆远离所述连通柱的一侧设有橡胶垫。

7.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述固定部包括第四驱动件和第五驱动件，所述第四驱动件用于驱动第五驱动件水平往复移动，所述第五驱动件用于180°翻转所述滑杆。

8.根据权利要求1所述的一种纳米陶瓷化前处理装置，其特征在于：所述滑槽的两侧分别设有限位开关，所述限位开关与所述第二驱动件电连接；所述限位开关用与控制所述第二驱动件反向转动。