[发明专利]玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法

权利要求书

1.一种玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，其特征在于：由以下步骤组成：

（1）玻璃经振荡清洗后高温烘干，然后将烘干后的玻璃挂在真空磁控溅射反应炉的转架上，真空磁控溅射反应炉内放置2个SiAl靶材，3个铜靶材，反应溅射的气体为氮气，保护气体为氩气；

（2）玻璃随真空磁控溅射反应炉的转架进行圆周旋转，抽真空到3.0×10^-4pa-7.0×10^-4pa，然后通入氩气，调节真空度至1.2-1.8×10^-1pa，打开离子源，对玻璃进行离子源清洗；

（3）通入氮气，调整氩气流量，维持真空度在1.2-1.9×10^-1pa，打开偏压电源，打开SiAl靶材直流控制电源，进行反应溅射镀；

（4）关闭SiAl靶材直流控制电源，关闭氮气，调节氩气流量，调节真空度至1.2-1.8×10^-1pa，然后打开铜靶材直流控制电源，进行磁控溅射镀铜，最后经后处理即得到镀铜玻璃；

其中：

步骤（3）中所述的氮气与氩气的流量比为1:1.2；

步骤（3）中所述的反应溅射镀偏压电压为250-350V，电流为3-7A；

步骤（3）中所述的反应溅射镀镀膜时间为3-5min，镀膜温度为150-200℃，镀膜厚度为20-30纳米；

步骤（4）中所述的镀铜时间为2-4min，镀铜厚度为100-150纳米。

2.根据权利要求1所述的玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，其特征在于：步骤（1）中所述的玻璃是硅酸盐玻璃。

3.根据权利要求1所述的玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，其特征在于：步骤（1）中所述的采用超声波振荡清洗，在金属清洗剂中清洗30-35min，温度设定为60-65℃，然后在两个去离子水池中分别振荡清洗15-20min，温度设定为60-65℃，最后于140-160℃的高温烘烤箱中烘烤30-35min。

4.根据权利要求1所述的玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，其特征在于：步骤（2）所述的离子源清洗时间为10-15min，真空度为1.4-1.8×10^-1pa，离子源电压为1800-2000V，占空比设置为60%-80%。

5.根据权利要求1所述的玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，其特征在于：步骤（4）中所述的后处理为关闭氩气，然后关闭电源，等待真空磁控溅射反应炉内温度降到≤40℃，开炉取样即得到镀铜玻璃。