[发明专利]提高工作效率的基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法

说明书

本发明公开了一种提高工作效率的基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法，包括下列步骤：（1）调节2个小孔同轴等高；（2）调节激光器使激光束水平；（3）调节透镜与激光束同轴等高；（4）调节物屏、光屏与激光束同轴等高。本发明成本低、精度高、便于实现，能同时满足凸透镜、凹透镜以及胶合镜等光学透镜独立调节同轴等高的需求，还可以实现物屏、像屏等其它平面类光学元件同轴等高的调节和判断，非常适合光学实验和工程技术时采用。

本申请是申请号：201811080292.9、申请日：2018.09.17、名称“基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法”的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法。

背景技术

对于成像光学系统而言，像的清晰度除与球差和色差有关外，还与彗差、像散、场曲、畸变等相关，尤其是在近轴区域，彗差和像散对像的清晰度影响非常大。为了减小彗差和像散的影响，应尽可能地使各光学元件同轴等高。光学实验时一般采用“两次成像”法来调节和判断透镜同轴等高。其调节和判断方法为：当物屏和像屏距离l 4f '条件下，f '为凸透镜的焦距，保持物屏与像屏位置不变时，移动透镜时会有两个不同的位置，在像屏上分别呈现大、小两个实像。若物的中心处在透镜光轴上而且光轴与导轨基线平行，则移动透镜时，大小两次成像的中心必将重合。若物的中心偏离光轴或导轨与光轴不平行，则当透镜移动时，成像时像的中心不再重合。当有两个透镜需要调整时，必须逐个进行上述调整，即先将一个透镜调好，记住像中心在屏上的位置，然后加上另一透镜，再次观察成像情况，对后一个透镜的位置高低进行调整，直至像中心仍然保持在第一次成像时的位置上。这种调节和判断方法过程较为繁琐，物屏和像屏也不能保证与光轴垂直，误差较大。因此，该方法难以实现较为理想的光学元件同轴等高的调节。

发明内容

本发明的目的在于提供一种有效降低光学元件同轴等高调节和判断的难度，提高工作效率的基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法。

本发明的技术解决方案是：

一种基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法，其特征是：包括下列步骤：（1）调节2个小孔同轴等高；（2）调节激光器使激光束水平；（3）调节透镜与激光束同轴等高；（4）调节物屏、光屏与激光束同轴等高。

步骤（1）调节2个小孔同轴等高的具体方法是：

将激光器与第一小孔的滑块靠近并紧固在导轨上，粗调第一小孔或激光器的支撑杆到适当的高度，让激光束中心穿过第一小孔；将调整好的第一小孔连同滑块一起从导轨上拿掉，放到一旁待用；将第二小孔连同滑块一起放置到第一小孔滑块相同的位置并紧固，调整第二小孔使激光束中心穿过小孔，将调整好的第二小孔连同滑块一起从导轨上拿掉，放到一旁待用。

步骤（2）调节激光器使激光束水平的具体方法是：将调整好的第一小孔和第二小孔连带滑块一起放到导轨上，使两小孔之间间隔一定距离，固定紧支撑小孔的滑块；观察激光束是否过两小孔，如果不穿过，则通过：调节激光器的三点夹持镜架上的两个个螺丝，以实现激光束倾斜和俯仰调节；调节精密调节杆架，以实现激光束竖直方向的平移；调节平移台，以实现激光束水平方向的平移；直到激光束中心均穿过两小孔为止；激光束水平调整完成以后，激光器不能再调节；