[发明专利]聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法有效
| 申请号: | 202010905850.1 | 申请日: | 2020-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN111978862B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
| 发明(设计)人: | 倪伶俐;刘永涛;芮国锋;蔡鹏;郑菲;张世忠 | 申请(专利权)人: | 淮阴工学院 |
| 主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C09D5/08;C09D5/16 |
| 代理公司: | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人: | 廖娜;李锋 |
| 地址: | 223100 江苏省淮安市洪泽区东七街三号高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 聚硅氧烷超 疏水 涂层 制备 方法 | ||
1.一种聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,常温环境下,将有机硅烷前驱体与阳离子光引发剂搅拌溶解混合均匀后,在基底上均匀涂抹;放置在装有紫外灯的密闭装置中,再通入有机溶剂的水溶液蒸汽环境中光照固化,得到有机聚硅烷超疏水涂层;
所述有机硅烷前驱体的分子式为Cl3SiCnH2n+1,其中n为8、10、12、16或18。
2.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述有机溶剂的水溶液蒸汽中,有机溶剂与水的摩尔比为1:0.1~10。
3.根据权利要求2所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述有机溶剂为丙酮。
4.根据权利要求1所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,通入所述有机溶剂的水溶液蒸汽的压缩空气流量为:5mL/min~50mL/min。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述硅烷前驱体与所述阳离子光引发剂的质量比为1:0.01~0.05。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述光照固化的功率为0.5~200mW /cm2,时间为10-60min。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述阳离子光引发剂为碘鎓盐。
8.根据权利要求7所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述碘鎓盐为双(十二烷基苯基)碘鎓六氟磷酸盐。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所述有机硅烷前驱体为辛基三氯硅烷、十八烷基三氯硅烷、十六烷基三氯硅烷、十二烷三氯硅烷或葵基三氯硅烷。
10.根据权利要求1至4中任一项所述的聚硅氧烷超疏水涂层的制备方法,其特征在于,所用基底为玻璃、硅片或PET。
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