[发明专利]用于分离包括多个太阳能电池堆叠的半导体晶片的分离方法有效
| 申请号: | 202010881681.2 | 申请日: | 2020-08-27 |
| 公开(公告)号: | CN112447883B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
| 发明(设计)人: | S·佐默;W·克斯特勒;A·弗雷 | 申请(专利权)人: | 阿聚尔斯佩西太阳能有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/78;H01L31/0687;H01L31/0725 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 郭毅 |
| 地址: | 德国海*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 分离 包括 太阳能电池 堆叠 半导体 晶片 方法 | ||
1.一种分离方法,所述分离方法用于沿着至少一个分离线(L)对包括多个太阳能电池堆叠(12)的半导体晶片(10)进行分离,所述分离方法至少包括以下步骤:提供所述半导体晶片(10),所述半导体晶片具有上侧(10.1)、下侧(10.2)、粘合剂层(22)和盖玻璃层(24),其中,所述粘合剂层与所述上侧(10.1)材料锁合地连接,所述盖玻璃层与所述粘合剂层(22)材料锁合地连接;其中,所述半导体晶片(10)分别具有多个太阳能电池堆叠(12)并且包括锗衬底层(14)、锗子电池(16)和至少两个III-V族子电池(18,20),所述锗衬底层构成所述半导体晶片(10)的下侧(10.1);沿着所述分离线(L)借助激光烧蚀产生如下的分离沟道(G):所述分离沟道从所述半导体晶片(10)的下侧(10.2)穿过所述半导体晶片(10)和所述粘合剂层(22)至少延伸至所述盖玻璃层(24)的与所述粘合剂层(22)邻接的下侧;沿着所述分离沟道分开所述盖玻璃层(24)。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,以直到所述盖玻璃层(24)的与所述粘合剂层(22)邻接的区域中的方式,产生所述分离沟道。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,通过断裂或锯来分开所述盖玻璃层。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,为了所述激光烧蚀,使激光(LA)沿着至少一个轨迹(S1,S2,S4,S5)在所述半导体晶片(10)的下侧(10.2)上运动,并且借助经聚焦的激光束(LS)沿着所述轨迹进行能量输入,其中,所述至少一个轨迹沿着所述分离线(L)或平行于所述分离线(L)延伸。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,沿着至少2个、至多30个轨迹(S1,S2,S4,S5)进行所述能量输入。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,在一个烧蚀循环中沿着n个轨迹(S1,S2,S4,S5)进行所述能量输入,并且将所述烧蚀循环重复至少一次,其中,在每次重复中所述轨迹的数量n保持相等或被减小,其中,在至少一次重复中减小数量n,其中,1≤n≤30。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,将所述烧蚀循环重复至少一次、至多40次。
8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,在一个烧蚀循环中以第一功率密度和第一焦平面进行所述能量输入,并且将所述烧蚀循环重复至少一次,其中,在至少一次重复中改变所述功率密度和/或所述焦平面。
9.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在产生所述沟道之前,将所述盖玻璃层的上侧材料锁合地与膜连接。
10.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述粘合剂层(22)包括硅酮并且具有至少5μm的厚度。
11.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述盖玻璃层(24)具有至少50μm的层厚度。
12.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,借助脉冲激光(LA)进行所述能量输入,其中,脉冲持续时间在10fs与100ns之间,和/或波长在315nm与1070nm之间或在1.5μm与10.6μm之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





