[发明专利]屏下指纹识别设备与屏下指纹识别方法

权利要求书

1.一种屏下指纹识别设备，其特征在于，包括：

透明盖板；

发光器件，位于透明盖板的一侧；

微透镜阵列，位于所述发光器件的远离所述透明盖板的一侧，所述微透镜阵列包括多个依次排列的微透镜；

CMOS芯片，位于所述微透镜阵列的远离所述发光器件的一侧，且位于所述微透镜阵列的像方焦平面处，所述微透镜阵列将指纹反射的光成像在所述CMOS芯片上。

2.根据权利要求1所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜阵列包括：

基材层，位于所述发光器件的远离所述透明盖板的一侧；

多个微透镜，位于所述基材层的表面上，且多个所述微透镜沿第一方向依次排列，所述第一方向与所述微透镜的厚度方向垂直。

3.根据权利要求2所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜在所述第一方向上的宽度在10～100μm之间，所述微透镜在第二方向上的宽度在10～100μm之间，所述第二方向、所述第一方向以及所述微透镜的厚度方向中任意两个相互垂直，所述微透镜的最大厚度在3～30μm之间。

4.根据权利要求3所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜的远离所述CMOS芯片的表面包括平面和/或曲面。

5.根据权利要求3所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述微透镜的远离所述CMOS芯片的表面由一个曲面形成。

6.根据权利要求1所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述CMOS芯片包括多个依次排列的成像单元，所述成像单元在第一方向上的像素宽度在0.5～50μm之间，所述成像单元在第二方向上的像素宽度在0.5～50μm之间，所述第一方向、所述第二方向与所述成像单元的厚度方向中任意两个方向相互垂直，一个所述微透镜在所述CMOS芯片上的投影覆盖多个所述成像单元。

7.根据权利要求1所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述发光器件包括多个依次排列的发光单元，所述发光单元在第一方向上的宽度在5～50μm之间，所述发光单元在第二方向上的宽度在5～50μm之间，所述第一方向与所述第二方向垂直，任意相邻两个所述发光单元的间距在10～100μm之间，且所述发光单元的面积小于所述微透镜的面积。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述透明盖板为玻璃盖板。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的屏下指纹识别设备，其特征在于，所述发光器件为OLED芯片。

10.一种屏下指纹识别方法，其特征在于，

使用权利要求1至9中任一项所述的屏下指纹识别设备得到若干个局部指纹生成的局部成像图；

将若干个所述局部指纹生成的所述局部成像图进行算法拼接，获取整个指纹的成像图。

11.一种屏下指纹识别装置，其特征在于，包括：

权利要求1至9中任一项所述的屏下指纹识别设备，用于得到若干个局部指纹生成的局部成像图；

软件，用于将若干个所述局部指纹生成的所述局部成像图进行算法拼接，获取整个指纹的成像图。

12.一种电子设备，包括显示屏与屏下指纹识别装置，其特征在于，所述屏下指纹识别装置为权利要求11所述的屏下指纹识别装置。