[发明专利]一种汇流体结构及半导体测序系统

权利要求书

1.一种汇流体结构，其特征在于，包括汇流体，其上设有多个试剂进口、废液出口一、清洗总入口、主流道、第一分支流道和第二分支流道，所述主流道的一端与所述清洗总入口连通，另一端与每个所述第一分支流道连通，所述试剂进口与所述第一分支流道一一对应且与连通，所述废液出口一与所述第二分支流道一一对应且通过对应的所述第二分支流道与对应的所述第一分支流道连通；

每个所述废液出口一均配设与其一一对应的开关阀，用于通过对应的所述开关阀与废液瓶连通。

2.根据权利要求1所述的汇流体结构，其特征在于，所述汇流体为多棱柱，其包括相对设置的第一外壁和第二外壁，及连接所述第一外壁和所述第二外壁且周向布设的至少三个第三外壁；

所述试剂进口设于所述第一外壁上，所述废液出口一和所述清洗总入口均设于所述第三外壁上。

3.根据权利要求2所述的汇流体结构，其特征在于，每个所述废液出口一设于不同的所述第三外壁上。

4.根据权利要求2所述的汇流体结构，其特征在于，所述第二外壁上设有芯片进液口和芯片出液口，其中一个所述第三外壁上设有废液出口二，所述芯片进液口与所述主流道连通，所述芯片出液口与所述废液出口二连通。

5.根据权利要求4所述的汇流体结构，其特征在于，所述废液出口二与所述清洗总入口设于不同的所述第三外壁上。

6.根据权利要求4所述的汇流体结构，其特征在于，多个所述第一分支流道的相交连通位置与所述主流道连通，每个所述第一分支流道的长度相等。

7.根据权利要求4所述的汇流体结构，其特征在于，每个所述第二分支流道的长度相等。

8.根据权利要求1至7任一项所述的汇流体结构，其特征在于，每个所述试剂进口的孔径相等，每个所述废液出口一的孔径相等，所述试剂进口的孔径等于所述废液出口一的孔径，且等于所述清洗总入口的孔径。

9.根据权利要求1至7任一项所述的汇流体结构，其特征在于，所述第一分支流道、所述第二分支流道和所述主流道的孔径相等。

10.一种半导体测序系统，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述汇流体结构。