[发明专利]光学元件、光学元件的制造方法以及显示装置在审

专利信息
申请号: 202010869686.3 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN112444907A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 斋藤淳 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B5/32 分类号: G02B5/32;G02B27/01;G03H1/12
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 元件 制造 方法 以及 显示装置
【说明书】:

提供光学元件、光学元件的制造方法以及显示装置,能够抑制伴随着基板的变形的性能降低。本发明的光学元件的特征在于,该光学元件具有:全息层;树脂基板,其粘贴有全息层;以及保持部,其支承树脂基板,并且热膨胀系数比树脂基板的热膨胀系数小,保持部和树脂基板中的一方具有沿着在树脂基板的板厚方向上延伸的轴的抵接面,保持部和树脂基板中的另一方具有按压抵接面的按压面。

技术领域

本发明涉及光学元件、光学元件的制造方法以及显示装置。

背景技术

作为使用了全息(holographic)元件等衍射元件的显示装置,提出了通过衍射元件使从图像光生成装置射出的图像光朝向观察者的眼睛偏转的显示装置(参照专利文献1)。衍射元件是通过在树脂基板上粘贴全息层而构成的。

专利文献1:日本特开2015-191026号公报

上述衍射元件通过对粘贴于树脂基板的全息材料进行基于激光的干涉曝光而形成全息层的干涉条纹。由于全息材料在干涉曝光中膨胀或收缩,因此,树脂基板有可能与全息材料一起膨胀或收缩而变形。这样,如果在干涉曝光中树脂板变形,则全息材料在变形的状态下被曝光,从而在全息层内形成不同衍射角度的干涉条纹,不能得到期望的性能。

另外,在衍射元件中,树脂基板根据实际使用时的环境温度而膨胀或收缩,从而使粘贴于树脂基板的全息层变形。当像这样全息层变形时,全息层内的干涉条纹发生变化。当干涉条纹这样变化时,全息层的衍射角度大幅变化,不能得到期望的性能。

发明内容

为了解决上述课题,本发明的一个方式的光学元件的特征在于,该光学元件具有:全息层;树脂基板,其粘贴有所述全息层;以及保持部,其支承所述树脂基板,并且热膨胀系数比所述树脂基板的热膨胀系数小,所述保持部和所述树脂基板中的一方具有沿着在所述树脂基板的板厚方向上延伸的轴的抵接面,所述保持部和所述树脂基板中的另一方具有按压所述抵接面的按压面。

可以构成为,所述保持部具有比所述树脂基板的弹性模量高的弹性模量。

可以构成为,所述树脂基板和所述保持部中的一方具有凹部,所述树脂基板和所述保持部中的另一方具有插入于所述凹部的凸部,所述凹部和所述凸部中的一方构成所述抵接面,所述凹部和所述凸部中的另一方构成所述按压面。

可以构成为,所述凸部和所述凹部的平面形状为框状。

可以构成为,所述树脂基板具有弯曲形状。

可以构成为,该光学元件的制造方法具有第1工序,在该第1工序中,在比使用所述光学元件的使用环境温度以及进行在所述全息层中形成干涉条纹的干涉曝光时的曝光环境温度中的任意一个温度都高的温度下,使所述按压面与所述抵接面抵接。

可以构成为,该光学元件的制造方法具有第1工序,在该第1工序中,在比使用所述光学元件的使用环境温度以及进行在所述全息层中形成干涉条纹的干涉曝光时的曝光环境温度中的任意一个温度都低的温度下,使所述按压面与所述抵接面抵接。

可以是如下制造方法:在所述第1工序中,在所述树脂基板粘贴有用于形成所述全息层的全息材料,在所述第1工序之后,对粘贴在所述树脂基板上的所述全息材料进行干涉曝光,由此形成所述全息层。

本发明的显示装置的特征在于,该显示装置具有:图像光生成装置,其生成图像光;以及光学系统,其包含使从所述图像光生成装置射出的所述图像光衍射的衍射元件,所述衍射元件由上述光学元件构成。

可以构成为,该显示装置具有框架,该框架以使所述全息层配置在观察者的眼前的方式将所述光学元件佩戴在所述观察者的头部,所述保持部是所述框架的一部分。

附图说明

图1是示出第1实施方式的显示装置的外观的一个方式的外观图。

图2是示出显示装置的另一外观的一个方式的外观图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010869686.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top