[发明专利]一种薄膜制备设备及方法

说明书

本发明公开了薄膜制备设备及方法，薄膜制备设备包括：盛放装置和旋转部，盛放装置用于盛放溶解有镀膜物质的易挥发溶剂，旋转部用于带动盛放装置旋转、以使易挥发溶剂铺平并挥发；盛放装置设置有用于固定待镀膜的衬底的固定部。本发明所提供的薄膜制备设备，结构简单，生产成本低，使用方便，可以适用于不同的镀膜物质，具有普适性；而且旋转部的设置可以提高薄膜的制备效率。

技术领域

本发明涉及材料科学技术领域，更具体地说，涉及一种薄膜制备设备。此外，本发明还涉及一种薄膜制备方法。

背景技术

对于半导体材料，超导材料，生物材料，铁电材料，铁磁材料等材料而言，薄膜制备技术对于提升材料性能至关重要。目前，薄膜的制备技术有很多种，例如：物理和化学气相沉积，溅射沉积，分子束外延，自组装，LB膜技术，溶胶凝胶法等。

虽然这些方法都已经成功地制备了一系列的薄膜，但是也存在一些问题，例如：气相沉积、溅射沉积和分子束外延均需要昂贵的设备，成本较高，且难以大面积，批量生产，自组装和LB薄膜技术需要特定的材料，不具有普适性，而且所得到的薄膜的机械性能不佳。溶胶凝胶法对于样品的浪费严重，对于极少量特殊珍贵样品也不适用。其中旋涂法可以很好的将某些易溶的溶质涂在衬底上，从而制备薄膜，但是对于溶解度低的物质而言，旋涂法制备的效率低，溶剂浪费明显，而且不适用于大量制备。

综上所述，如何提高薄膜的制备效率，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提供一种薄膜制备设备，设置有盛放装置和旋转部，并且可以将待镀膜的衬底固定于盛放装置，旋转部带动盛放装置旋转的过程中，可以使溶解有镀膜物质的易挥发溶剂平铺于衬底，并且加快易挥发溶剂的挥发，提高薄膜的制备效率。

本发明的另一目的是提供一种薄膜制备方法。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种薄膜制备设备，包括：盛放装置和旋转部，所述盛放装置用于盛放溶解有镀膜物质的易挥发溶剂，所述旋转部用于带动所述盛放装置旋转、以使所述易挥发溶剂铺平并挥发；

所述盛放装置设置有用于固定待镀膜的衬底的固定部。

优选的，还包括用于对所述盛放装置进行加热的加热装置，以提高所述易挥发溶剂的挥发效率。

优选的，还包括用于对所述盛放装置内部空间进行抽真空操作的抽真空设备。

优选的，所述抽真空设备包括用于与所述盛放装置内部空间连通的连接管、真空泵、连接所述连接管与所述真空泵的冷凝管以及用于收集所述冷凝管冷凝之后产物的溶剂收集装置；

所述溶剂收集装置与所述冷凝管连通且设置于所述冷凝管的下部。

优选的，所述盛放装置还包括具有底面的筒状结构的外壳以及可拆卸的设置于所述外壳内的内衬，所述内衬压设于所述固定部的上部、以固定所述衬底。

优选的，所述固定部为垫圈，所述外壳设置有用于放置所述衬底的平整底面，所述垫圈压设于所述衬底的上部。

一种薄膜制备方法，包括：

将镀膜物质溶解于易挥发溶剂中；

将溶解有镀膜物质的所述易挥发溶剂平铺于待镀膜的衬底的表面；

旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底；

所述易挥发溶剂挥发直至在所述衬底表面形成薄膜。

优选的，所述旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底包括：

所述衬底的转速为10r/min-600r/min。

优选的，所述旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底还包括：