[发明专利]一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法有效

专利信息
申请号: 202010862628.8 申请日: 2020-08-25
公开(公告)号: CN112132968B 公开(公告)日: 2023-08-08
发明(设计)人: 吕琳;彭昊;曹令鑫;江腾飞;黄劲 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G06T17/10 分类号: G06T17/10;G06T17/20;B33Y50/00
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 李琳
地址: 266237 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 尺度 周期性 晶格 自适应 填充 建模 方法
【权利要求书】:

1.一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法,其特征是:包括以下步骤:

将输入的3D模型分为一组六面体单元作为粗网格,将周期性结构填充到每个单元中,生成细尺度的微观结构;

根据设定的指导场,控制六面体网格生成的密度和周期性结构单元的厚度,生成指导场对应物理性质的填充模型;

根据六面体网格对周期性结构进行参数变换并填充的具体过程包括:在六面体网格中填充周期性结构,根据周期性结构的公式在六面体单元中建立距离场,通过Marching-Cube算法将距离场转化为脚手架结构;

根据设定的指导场,控制六面体网格生成的密度的具体过程包括:设六面体单元是等参变换,周期性结构单元是等体积变换,六面体单元的局部密度与它体积的三次方根成反比;

根据设定的指导场,控制周期性结构的厚度的具体过程包括:对六面体单元的角上厚度进行插值,计算填充的周期性结构单元的局部厚度,填充的周期性结构单元的局部厚度计算为:

其中,为六面体单元由线性拉格朗日插值生成的形状函数,τ(q)表示为六面体单元的角上厚度。

2.如权利要求1所述的一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法,其特征是:所述指导场根据需要填充的3D模型,结合对模型的材料和性质的要求设定。

3.如权利要求1所述的一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法,其特征是:将输入的3D模型分为一组六面体单元作为粗网格的具体过程包括:将模型分解为多层网格表面,对最底层表面使用用户指定的尺寸划分为四边形网格,将底面的四边形网格分别映射到其他的网格上,根据底面的四边形网格和映射后的四边形网格,形成六面体网格。

4.如权利要求1所述的一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法,其特征是:在生成指导场对应物理性质的填充模型过程中,使用混合有限元变分曲面建模方法对周期性结构单元进行变形。

5.一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模系统,其特征是:包括:

网格化处理模块,被配置为将输入的3D模型分为一组六面体单元作为粗网格,将周期性结构填充到每个单元中,生成细尺度的微观结构;

填充模块,被配置为根据设定的指导场,控制六面体网格生成的密度和周期性结构单元的厚度,生成指导场对应物理性质的填充模型;

根据六面体网格对周期性结构进行参数变换并填充的具体过程包括:在六面体网格中填充周期性结构,根据周期性结构的公式在六面体单元中建立距离场,通过Marching-Cube算法将距离场转化为脚手架结构;

根据设定的指导场,控制六面体网格生成的密度的具体过程包括:设六面体单元是等参变换,周期性结构单元是等体积变换,六面体单元的局部密度与它体积的三次方根成反比;

根据设定的指导场,控制周期性结构的厚度的具体过程包括:对六面体单元的角上厚度进行插值,计算填充的周期性结构单元的局部厚度,填充的周期性结构单元的局部厚度计算为:

其中,为六面体单元由线性拉格朗日插值生成的形状函数,τ(q)表示为六面体单元的角上厚度。

6.一种计算机可读存储介质,其特征是:其中存储有多条指令,所述指令适于由终端设备的处理器加载并执行权利要求1-4中任一项所述的一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法。

7.一种终端设备,其特征是:包括处理器和计算机可读存储介质,处理器用于实现各指令;计算机可读存储介质用于存储多条指令,所述指令适于由处理器加载并执行权利要求1-4中任一项所述的一种两尺度周期性的晶格自适应填充和建模方法。

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