[发明专利]互连结构、包含互连结构的半导体结构及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202010857079.5 申请日: 2020-08-24
公开(公告)号: CN112447669A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 蔡荣洲;张丰愿;黄博祥;刘钦洲;郑仪侃 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/528 分类号: H01L23/528;H01L21/768
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 李春秀
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 互连 结构 包含 半导体 及其 形成 方法
【说明书】:

发明实施例涉及互连结构、包含互连结构的半导体结构及其形成方法。一种互连结构包含多个第一垫、多个第二垫、第一层中的多个第一导线、第二层中的多个第二导线及第n层中的多个第n导线。所述第一垫及所述第二垫分别分组成第一群组、第二群组及第n群组。第一群组中的所述第一垫中的每一者由所述第一导线中的一者连接到所述第一群组中的所述第二垫中的一者。所述第二群组中的所述第一垫中的每一者由所述第二导线中的一者连接到所述第二群组中的所述第二垫中的一者。所述第n群组中的所述第一垫中的每一者由所述第n导线中的一者连接到所述第n群组中的所述第二垫中的一者。

技术领域

本发明实施例涉及互连结构、包含互连结构的半导体结构及其形成方法。

背景技术

归因于各种电子组件(例如晶体管、二极管、电阻器、电容器等等)的集成密度不断提高,半导体工业已经历快速增长。集成密度的此提高允许更多组件集成到给定面积中。随着近年来小型化、更高速度及更大带宽及更低功耗及延时的需求增长,半导体裸片的更小及更具创造性封装技术的需求日益增加。

随着半导体技术进一步发展,堆叠半导体装置(例如3D集成电路(3DIC))已成为进一步减小半导体装置的实体大小的有效替代。在堆叠半导体装置中,有源电路(例如逻辑、存储器、处理器电路及其类似者)经制造于不同半导体晶片上。两个或更多个半导体晶片或裸片可经彼此上下安装以进一步减小半导体装置的外型尺寸。因此,需要互连结构来提供半导体晶片或裸片之间的电连接。

发明内容

根据本发明的实施例,一种互连结构包括:多个第一垫,其中所述第一垫沿一方向布置以形成行,且所述第一垫分组成第一群组、第二群组及第n群组,且n是等于或大于2的整数;多个第二垫,其中所述第二垫沿所述方向布置以形成平行于由所述第一垫形成的所述行的行,且所述第二垫分组成第一群组、第二群组及第n群组;及安置于第一层中的多个第一导线、安置于第二层中的多个第二导线及安置于第n层中的多个第n导线,其中所述第一层、所述第二层及所述第n层经堆叠以形成多层结构,其中所述第一垫及所述第二垫安置于所述第一层、所述第二层及所述第n层上方,所述第一群组中的所述第一垫中的每一者由所述第一层中的所述第一导线中的一者电连接到所述第一群组中的所述第二垫中的一者,所述第二群组中的所述第一垫中的每一者由所述第二层中的所述第二导线中的一者电连接到所述第二群组中的所述第二垫中的一者,且所述第n群组中的所述第一垫中的每一者由所述第n层中的所述第n导线中的一者电连接到所述第n群组中的所述第二垫中的一者。

根据本发明的实施例,一种互连结构包括:多个第一垫,其经布置以形成第一阵列,其中所述第一阵列具有沿第一方向延伸且沿第二方向彼此平行的第一行、第二行及第m行,其中所述第一行、所述第二行及所述第m行中的每一者中的所述第一垫分组成沿所述第二方向延伸的第一群组、第二群组及第n群组,m是等于或大于2的整数,且n是等于或大于2的整数;多个第二垫,其经布置以形成第二阵列,其中所述第二阵列具有沿所述第一方向延伸且沿所述第二方向彼此平行的第一行、第二行及第m行,其中所述第一行、所述第二行及所述第m行中的每一者中的所述第二垫分组成沿所述第二方向延伸的第一群组、第二群组及第n群组;及安置于第一层中的多个第一导线、安置于第二层中的多个第二导线及安置于第n层中的多个第n导线,其中所述第一层、所述第二层及所述第n层经堆叠以形成多层结构,其中所述第一垫及所述第二垫安置于所述第一层、所述第二层及所述第n层上方,所述第一阵列的所述第一群组中的所述第一行中的所述第一垫中的每一者由所述第一层中的所述第一导线中的一者电连接到所述第二阵列的所述第一群组中的所述第一行中的所述第二垫中的一者,所述第一阵列的所述第一群组中的所述第二行中的所述第一垫中的每一者由所述第一层中的所述第一导线中的一者电连接到所述第二阵列的所述第一群组中的所述第二行中的所述第二垫中的一者,且所述第一阵列的所述第一群组中的所述第m行中的所述第一垫中的每一者由所述第一层中的所述第一导线中的一者电连接到所述第二阵列的所述第一群组中的所述第m行中的所述第二垫中的一者。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010857079.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top