[发明专利]涂布装置及涂布方法

说明书

提供一种涂布装置及涂布方法，通过使清洁构件以适当的按压力按压喷嘴来确保清洁能力，并有效地防止因摩擦而产生的细粉混入涂布层。在该涂布方法中，执行多次从喷嘴喷出涂布液来对被涂布物进行涂布的涂布工序，所述喷嘴设置有以狭缝状开口喷出口，该涂布方法执行清洁工序以及预备清洁工序，该清洁工序，在每次所述涂布工序结束时，使清洁构件与喷出口的周围的喷嘴的表面抵接，并使喷嘴与清洁构件相对移动，该预备清洁工序，当清洁工序的累计执行次数达到规定的阈值时，在执行下一次的涂布工序之前执行，将喷嘴与清洁构件的相对位置变更设定在使两者接近的一侧，并使清洁构件相对于喷嘴相对移动。

技术领域

本发明涉及一种从喷嘴上设置的喷出口喷出涂布液并将涂布液涂布在被涂布物上的涂布装置及涂布方法。作为被涂布物，例如可以适用液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、PDP(Plasma Display Panel：等离子平板显示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、滤色器(color filter)用基板、记录磁盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等的精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)用基板等各种基板。

背景技术

在用于使涂布液从在喷嘴上以狭缝状开口的方式设置的喷出口喷出并涂布到被涂布物上的技术中，有时会设置用于对残留并附着在涂布后的喷出口周围的涂布液进行清洁的动作。尤其，在反复执行多次涂布动作的情况下，为了防止在先前的涂布动作中残留的涂布液导致下一次涂布动作中的膜厚变动或端部混乱等不良影响，在每次执行涂布动作时都要进行清洁动作。

例如，在日本专利第6290700号公报中记载的技术中，使硅橡胶制成的清洁用垫与喷嘴抵接，使垫沿着喷出口的长度方向移动，由此将残留并附着在喷嘴上的涂布液刮除，其中，该喷嘴具有狭缝状的喷出口，该清洁用垫被成形为与该喷嘴的前端部的剖面形状相对应的形状。在日本专利第6290700号公报中，为了防止由于垫的变形或磨损而引起的按压力的变动产生刮擦不均，设置有用于将垫以恒定的按压力按压喷嘴的机构。

发明内容

发明要解决的问题

上述现有技术中的橡胶制成的垫那样的清洁用构件，通过与喷嘴之间的摩擦而逐渐磨损。在上述现有技术中，只着眼于因磨损引起的按压力的变化。然而，实际上，也可能产生如下问题，即，因清洁构件在摩擦时削减而产生的细粉附着在喷出口的周围，并在随后的涂布动作中混入到已完成涂布的层中。尤其，如上述现有技术那样，在清洁构件总是以恒定的按压力摩擦喷嘴的情况下，在每次清洁动作中都会产生这样的细粉。

本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种能够通过使清洁构件以适当的按压力按压喷嘴来确保清洁能力，并有效地防止因摩擦而产生的细粉混入涂布层的技术。

用于解决问题的手段

本发明的第一方式为一种涂布装置，为了达成上述目的，该涂布装置具有：喷嘴，设置有喷出涂布液的喷出口，该喷出口以第一方向作为长度方向而开口为狭缝状；清洁构件，所述第一方向上的长度小于所述喷出口的长度；位置调节机构，在与所述喷出口的开口面相交的第二方向上使所述喷嘴与所述清洁构件相对移动，来调节所述喷嘴与所述清洁构件在所述第二方向上的相对位置；扫描移动机构，使所述喷嘴与所述清洁构件在所述第一方向上相对移动，以及控制部，对由所述位置调节机构调节的所述清洁构件相对于所述喷嘴的相对位置以及由所述扫描移动机构执行的所述相对移动进行控制，来执行清洁所述喷嘴的清洁动作。

其中，所述控制部，在将所述相对位置设定为所述清洁构件与所述喷出口的周围的所述喷嘴的表面相抵接的抵接位置的状态下，通过利用所述扫描移动机构使所述清洁构件相对于所述喷嘴而在所述第一方向上相对移动，来执行所述清洁动作；当所述清洁动作的累计执行次数达到了规定的阈值时，将所述抵接位置变更设定在使所述喷嘴与所述清洁构件接近的一侧，执行预备清洁动作，所述预备清洁动作是指，在将所述相对位置设定为变更后的所述抵接位置的状态下，利用所述扫描移动机构使所述清洁构件相对于所述喷嘴在所述第一方向上相对移动。