[发明专利]一种光学反射膜片匀光处理方法在审

专利信息
申请号: 202010846363.2 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN112001076A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 邓世强 申请(专利权)人: 江苏南锦电子材料有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 南京创略知识产权代理事务所(普通合伙) 32358 代理人: 陈雅洁
地址: 212000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 反射 膜片 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:包括以下步骤:

1)采用模拟软件根据膜片类型建立对应的膜片模型,同时根据电视机类型建立对应的电视机模型,将膜片模型与对应的电视机模型对应组装后,对其进行光学模拟测定,以确定模拟环境中需要匀光处理的位置;

2)在步骤1)中确定的需要匀光处理的位置根据预设模拟丝印规则选用UV环保油墨进行丝印;

3)通过光学模拟测定确定经匀光处理后的对应位置的模拟光学性能参数是否满足预设需求;如果不满足则重新调节步骤2)中选用的UV环保油墨的种类、数量、用量、丝印位置、丝印时间及丝印面积;如果满足则记录对应选用的UV环保油墨的种类、数量、用量、丝印位置、丝印时间及丝印面积并进入下一步骤;

4)将与模拟环境相同类型的膜片及电视机进行对应组装,并在组装好的膜片上采用模拟环境确定选用的UV环保油墨的种类、数量、用量、丝印位置、丝印时间及丝印面积进行实际丝印;

5)对实际丝印完成的膜片进行光学实际测定,并将获得的实际光学性能参数与模拟光学性能参数进行对应差值计算,并将计算得到的差值绝对值与预设阈值范围进行比较,当且仅当差值绝对值落入预设阈值范围内时,认定针对该类型膜片的匀光处理合格,并记录本次对应匀光处理参数;当差值绝对值超出预设阈值范围时,认定针对该类型膜片的匀光处理不合格,并记录本次对应匀光处理参数,同时对应调整下一次实际匀光处理的工作参数。

6)经多次丝印后,分别根据认定合格的匀光处理参数和认定不合格的匀光处理参数对预设模拟丝印规则进行优化。

2.根据权利要求1所述的一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:所述步骤1)中,膜片模型与电视机模型之间为单一或非单一对应关系。

3.根据权利要求1所述的一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:所述步骤2)中,预设模拟丝印规则根据历史经验确定并经由后期优化修正。

4.根据权利要求1所述的一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:所述步骤3)中,如果不满足则重新调节步骤2)中选用的UV环保油墨的种类、数量、用量、丝印位置、丝印时间及丝印面积时,根据预设的优先级别实现对应调节,且预设的优先级别为UV环保油墨的数量>种类>用量>丝印位置>丝印面积>丝印时间。

5.根据权利要求4所述的一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:所述预设的优先级别能够根据需求更改。

6.根据权利要求1所述的一种光学反射膜片匀光处理方法,其特征在于:所述步骤6)中,根据优化值对预设模拟丝印规则进行优化,且其中,优化值A满足

A=aX+bY (1)

其中,

A为优化值;

a为认定合格的匀光处理参数的对应系数;

X为认定合格的匀光处理参数;

b为认定不合格的匀光处理参数的对应参数;

Y为认定不合格的匀光处理参数;

a+b=1且满足a不小于b。

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