[发明专利]液晶体光栅的制作方法

权利要求书

1.一种液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述液晶体光栅的制作方法包括如下步骤：

提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层；

对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区；

向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅；

其中，所述曝光区的尺寸大于或等于和与其对应的所述刻蚀区的尺寸；所述液晶体光栅适用于VR和AR。

2.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述提供两个基底，在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层的步骤包括：

在其中一个所述基底上旋涂与所述基底的折射率一致或基本一致的粘胶，形成所述胶层；

在另一个所述基底上旋涂、喷涂、喷墨打印或刮涂一层配向薄膜，并对所述配向薄膜进行光致配向、摩擦配向或离子束配向处理，形成所述配向层。

3.如权利要求2所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述胶层的折射率与所述基底的折射率的差值范围为-0.1~0.1。

4.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述对所述胶层进行刻蚀，形成多个刻蚀区，并对所述配向层进行曝光，形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区的步骤包括：

固化所述胶层，采用光刻或电子束刻方式对所述胶层进行刻蚀，形成多个所述刻蚀区；

采用双光束干涉曝光配掩膜版的方式对所述配向层进行曝光，形成多个所述曝光区。

5.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅的步骤包括：

将液晶混合物旋涂或灌注进各所述刻蚀区内；其中，所述液晶混合物为非可聚合液晶单体、手性剂以及溶剂混合形成的混合物；或者，所述液晶混合物为可聚合液晶单体、手性剂、引发剂、助引发剂以及溶剂混合形成的混合物；

将所述曝光区所在的所述基底通过粘胶盖合粘接在所述刻蚀区所在的所述基底上方，以使多个所述曝光区一一对应粘接在多个所述刻蚀区上方，形成所述液晶体光栅。

6.如权利要求1所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物，并将两个所述基底粘接，以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区，形成液晶体光栅的步骤之后，还包括：

在70~80℃的温度下对所述液晶体光栅加热1~5min。

7.如权利要求6所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述在70~80℃的温度下对所述液晶体光栅加热1~5min的步骤之后，还包括：

当所述液晶混合物为非可聚合液晶单体、手性剂以及溶剂混合形成的混合物时，对所述液晶体光栅 进行固化处理。

8.如权利要求1-7中任一项所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述胶层的厚度为100~1000um，所述刻蚀区的深度为1~100um，且所述胶层的厚度大于所述刻蚀区的厚度。

9.如权利要求1-7中任一项所述的液晶体光栅的制作方法，其特征在于，所述刻蚀区和所述曝光区的数量均为三个，三个所述刻蚀区分别为耦入区、转折区和耦出区，所述耦入区、所述转折区和所述耦出区分别对应粘接在三个所述曝光区上。