[发明专利]紫外光平面反射镜及其应用以及制备方法

权利要求书

1.一种紫外光平面反射镜，其特征在于，包括平面基体和多层镀膜结构；所述多层镀膜结构由二氧化钛层与二氧化硅层交替层叠镀膜形成，所述多层镀膜结构的总层数为30～34，二氧化钛层的膜层厚度为10～99nm，二氧化硅层的膜层厚度范围29～140nm；

所述二氧化钛层的膜层厚度按如下规律设计：膜层厚度在开始镀膜阶段膜层厚度逐层增加，中层膜厚逐渐增加到某一极大值后逐渐减小至某一极小值，循环若干周期；最后几层镀膜须大幅增加膜厚，达到各膜层厚度的最大值；

所述二氧化硅层的膜层厚度按下规律设计：膜层厚度在开始镀膜阶段膜层厚度逐层减少，中层膜厚逐渐增加到某一极大值后逐渐减小至某一极小值，循环若干周期；最后几层膜厚变化幅度较大，须大幅增加或减少膜厚，达到各膜层厚度的最大值或最小值；

所述二氧化钛层膜层与二氧化硅膜层交替镀制，二氧化钛膜层厚度与二氧化硅膜层厚度变化趋势呈相反规律。

2.根据权利要求1所述的紫外光平面反射镜，其特征在于，所述多层镀膜结构的总层数为34层，以二氧化钛层作为第1层镀膜层，从第1层至第34层的各膜层厚度按如下表范围：

表中各膜层厚度的单位为nm。

3.根据权利要求1所述的紫外光平面反射镜，其特征在于，所述平面基体为树脂或玻璃材料。

4.根据权利要求1所述的紫外光平面反射镜，其特征在于，所述紫外光平面反射镜尺寸为(200～450)*(100～150)cm²。

5.根据权利要求1所述的紫外光平面反射镜，其特征在于，所述紫外光平面反射镜的反射波长为280～400，反射率为90％以上。

6.一种紫外光平面反射镜的应用，其特征在于，由数个如权利要求1～5所述的紫外光平面反射镜组成阵列并组成锅盖形状，用于反射太阳光将其中的紫外光聚焦透照到样品上用于光老化实验。

7.一种紫外光反射镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)预处理：对平面基体进行粗磨，使平面基体的两个平面表面粗糙度为150号～220号；然而，对粗磨后的平面基体进行精磨，使平面基体的两个平面达的表面粗糙度为320号～400号；再对精磨后的平面基体进行抛光，使平面基体的两个平面达到镀膜所需的表面光洁度和面型精度要求；

2)多层镀膜：将经过预处理的平面基体清洗干净，并装夹在镀膜机的真空镀膜室内，在真空镀膜室内中两个膜料器中分别加入对应的二氧化钛和二氧化硅膜料；当真空镀膜室内的真空度和温度达到指标后，在镀膜程序控制下，在平面基体的一个平面上完成二氧化钛层与二氧化硅层交替层叠镀膜，形成如权利要求1～5所述的多层镀膜结构的紫外光反射镜。

8.根据权利要求7所述紫外光反射镜的制备方法，其特征在于，对平面基体进行粗磨，使平面基体的两个平面达到0.2mm以内的平行度、0.02mm以内的垂直度。

9.根据权利要求7所述的紫外光反射镜的制备方法，其特征在于：根据权利要求8所述的紫外光反射镜的制备方法，其特征在于：所述镀膜过程的真空度为1×10^-3～1×10^-2Pa；温度为200±5℃。