[发明专利]精抛方法有效

专利信息
申请号: 202010838300.2 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN112091802B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 刘平;苏禹宾;张举;陈亮 申请(专利权)人: 广东长盈精密技术有限公司;深圳市长盈精密技术股份有限公司
主分类号: B24B31/00 分类号: B24B31/00;B24B31/12;B24B31/14;B24B41/06;C09G1/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 林青中
地址: 523808 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 方法
【权利要求书】:

1.一种精抛方法,其特征在于,包括以下步骤:

将研磨料置于物料槽中,其中,所述研磨料的原料包括核桃砂和精抛添加剂,所述核桃砂的粒径为0.10mm~0.53mm,以体积份数计,所述精抛添加剂包括7份~10份的植物油、45份~55份的精抛液、10份~18份的光亮剂和26份~36份的溶剂,所述精抛液包括氧化铝颗粒、润滑剂和水,所述氧化铝颗粒的粒径小于0.5μm,所述精抛添加剂的体积与所述核桃砂的质量之比为1L:(175kg~200kg);

将待抛光件装载入抛光治具后,置于所述物料槽中,其中,所述抛光治具包括固定机构、旋转轴和立柱,所述待抛光件的待抛光面为非圆周面,所述待抛光件被固定于所述固定机构中,且所述待抛光面中需要增大磨削程度的面更靠近所述立柱,所述立柱用于增大待抛光件上到所述旋转轴的距离较短的面的摩擦阻力,减小待抛光件上到所述旋转轴的距离较长的面的摩擦阻力;及

驱动所述旋转轴旋转,以使所述待抛光件随所述旋转轴旋转而被所述研磨料抛光;

在所述抛光治具中,所述固定机构包括第一固定件和与所述第一固定件间隔且相对设置的第二固定件,所述第二固定件具有承载面,所述旋转轴位于所述第一固定件上并向远离所述第二固定件的方向延伸,所述立柱位于所述第一固定件和所述第二固定件之间,所述立柱与所述第一固定件和所述第二固定件均连接,所述立柱在所述承载面的正投影与所述旋转轴在所述承载面的正投影间隔,所述待抛光件被固定于所述第一固定件和所述第二固定件间;

所述立柱与第二固定件固接,所述立柱与所述第一固定件活动连接,所述立柱靠近所述第一固定件的一端具有螺纹,且靠近所述螺纹处套设有与所述螺纹相匹配的螺母,所述待抛光件有多个,所述抛光治具还包括隔板,所述隔板具有第一面,所述第一面上开设有导流槽,所述将待抛光件装载入抛光治具中的步骤包括:

将多个所述待抛光件置于所述第一固定件和所述第二固定件之间,并用所述隔板将相邻的所述待抛光件间隔,且所述导流槽的槽口朝向所述立柱;及

旋转所述螺母,使得所述螺母向靠近所述第二固定件的方向运动,以将多个所述抛光件固定于所述第一固定件和所述第二固定件之间。

2.根据权利要求1所述的精抛方法,其特征在于,所述抛光治具具有安装面,所述安装面朝向所述承载面,在静态条件下,所述研磨料在所述物料槽中的高度与所述安装面到所述物料槽的槽底的距离的差为5cm~10cm。

3.根据权利要求1所述的精抛方法,其特征在于,所述旋转轴的旋转频率为25Hz~35Hz,所述旋转轴正反向交替旋转,所述正反向交替旋转的时间间隔为1min~10min。

4.根据权利要求1~3任一项所述的精抛方法,其特征在于,在所述将研磨料置于物料槽中的步骤之前,还包括制备研磨料的步骤,所述制备研磨料的步骤包括:

在将所述核桃砂置于物料槽中后,将所述精抛添加剂置于所述物料槽中;及

用空载的所述抛光治具将所述物料槽中的核桃砂和精抛添加剂混合均匀。

5.根据权利要求1所述的精抛方法,其特征在于,所述立柱有两根,两根所述立柱以所述旋转轴为对称轴间隔设置,所述待抛光面为矩形周面,所述待抛光面具有两个到所述旋转轴的距离较短的侧面,将所述待抛光件装载入抛光治具的步骤包括:将所述待抛光件固定于固定机构中,并使所述待抛光件的待抛光面的到所述旋转轴的距离较短的侧面朝向所述立柱。

6.根据权利要求1~3及5任一项所述的精抛方法,其特征在于,在所述驱动所述旋转轴旋转的步骤之后,还包括检查固定于所述固定机构上的待抛光件的精抛程度,并根据所述待抛光件的精抛程度判断是否继续抛光的步骤。

7.根据权利要求6所述的精抛方法,其特征在于,所述检查固定于所述固定机构上的待抛光件的精抛程度,并根据所述待抛光件的精抛程度判断是否继续抛光的步骤包括:

暂停旋转轴旋转;及

将所述固定机构上的待抛光件取下,并置于在800LUX~1000LUX光源下检查,若所述待抛光件表面平整无纹路且呈镜面,则停止抛光;若所述待抛光件表面不平整或无镜面效果,则将所述待抛光件重新装载入所述抛光治具后继续抛光。

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