[发明专利]一种基片台和调整微波等离子体球稳定的方法有效
| 申请号： | 202010836532.4 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN112103160B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 满卫东;龚闯;朱长征;吴剑波 | 申请（专利权）人： | 上海征世科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 周琼 |
| 地址： | 201799 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基片台 调整 微波 等离子体 稳定 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基片台，其特征在于：所述基片台设置在一个轴对称的微波等离子体(MPCVD)圆柱形真空腔体内的中央处，所述基片台由金属支架支撑，所述金属支架的底部包含一个圆环形金属挡板，所述基片台下部设有一个可拆卸的金属反射环，所述金属反射环位于所述金属挡板的上方，其中，所述金属反射环由一个实心圆柱体环沿中轴线方向分开而成的金属体。
2.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：所述金属反射环的内环直径为15.0-60.0毫米，所述金属反射环的外环直径为50.0-85.0毫米。
3.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：金属反射环的内环直径与金属支架外径相等。
4.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：金属反射环的外径和高度能根据基片台上放置的衬底材料的不同而进行调整。
5.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于：所述金属反射环设置在可能激发等离子体的区域内。
6.一种调整微波等离子体球稳定性的方法，其特征在于：包括如权利要求1-5任一项所述的基片台，所述金属反射环放置在基片台底部，避免等离子体在基片台底部围绕金属支架周围放电，从而能避免因为不必要的等离子体放电而使金属支架及相关的真空密封受到损伤，同时也能使微波能量更加集中在基片台的上表面，从而提高等离子体球的稳定性。
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