[发明专利]一种浅水水下控制模块的压力调节装置及其使用方法

权利要求书

1.一种浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，包括：水下控制模块的机箱，压力补偿组件以及承压腔；

所述机箱的底部是有若干条液压流道，各所述液压流道上设有至少一个控制所述液压流道开闭的电磁阀；

所述压力补偿组件位于所述机箱内，用于调节所述机箱内的压力，使其与对应深度的水压一致；

所述承压腔固定在所述机箱的底部，用于放置所述电磁阀，并使所述承压腔内的压力接近于标准大气压。

2.如权利要求1所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述压力补偿组件包括胶囊腔室、中空胶囊以及液压管；所述胶囊腔室固定在所述机箱内，且与机箱外环境相通，其内设中空胶囊，所述液压管一端与所述中空胶囊连接，另一端通过所述胶囊腔室进入所述机箱内。

3.如权利要求2述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述机箱上所述胶囊腔室对应位置处设有至少一个与外界连通的通孔，所述胶囊腔室通过所述通孔与所述机箱外的环境相通。

4.如权利要求3所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述胶囊腔室的容积大于所述中空胶囊的容积。

5.如权利要求3所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述压力补偿组件还包括第一密封件，所述第一密封件用于对所述液压管与所述胶囊腔室连接的一端、所述胶囊腔室以及所述中空胶囊之间的间隙进行密封。

6.如权利要求1所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述承压腔内设阀块，所述阀块与所述机箱的底部固定连接，所述电磁阀设置在所述阀块上。

7.如权利要求6所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述承压腔与所述底板接触的部分均通过第二密封件密封，所述承压腔内填充惰性气体，以降低所述电磁阀的腐蚀或氧化。

8.如权利要求7所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述承压腔顶部设有一具有通孔的穿舱件，所述液压流道的电接头穿过所述穿舱件的通孔与所述电磁阀连接。

9.如权利要求1-8任一项所述的浅水下控制模块的压力调节装置，其特征在于，所述机箱内填充有非导电性液态介质。

10.一种浅水下控制模块的压力调节装置的使用方法，其特征在于，所述压力调节装置为权利要求1-9任一项所述的浅水下控制模块的压力调节装置，包括以下步骤：

S1将中空胶囊内注入非导电性液态介质；

S2下放所述浅水水下控制模块，随着入水深度的增加，水进入通过机箱的通孔进入胶囊腔室，并压迫所述中空胶囊，所述中空胶囊中非导电性液态介质通过所述液压管进入所述机箱中，使得所述机箱内的压力逐步升高，直至与外部水压一致；

S3所述浅水水下控制模块上提回收过程中，随着水压减小，所述机箱内的非导电性液态介质不断被压回所述中空胶囊，使得所述机箱中的压力逐步降低，始终与水压保持一致。