[发明专利]感测电路和显示装置在审

专利信息
申请号: 202010834921.3 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN112445369A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 李春协;李康源;金佳英;金樯熙;赵雅拉 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩芳;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电路 显示装置
【说明书】:

提供了一种感测电路和一种显示装置。所述感测电路包括:多个传感器电极;第一电容,在传感器电极之间;多个接近感测电极,与传感器电极电隔离;以及第二电容,在传感器电极中的至少一个传感器电极与接近感测电极之间。接近感测电极中的至少一个接近感测电极的密度小于传感器电极中的至少一个传感器电极的密度。

技术领域

本公开的示例实施例的方面涉及一种感测单元(例如,感测电路或感测层)、一种显示装置和一种驱动显示装置的方法。

背景技术

随着信息社会已经发展,对用于显示图像的显示装置的需求已经增加并且多样化。例如,显示装置已经应用于各种电子装置,诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航装置、智能电视机(TV)等。显示装置可以包括用于显示图像的显示面板。显示装置可以包括各种传感器,例如,诸如用于检测用户在显示装置的前面处的存在的接近传感器、用于检测显示装置的前面处的照度的照度传感器、用于识别用户的虹膜的虹膜传感器等。

随着显示装置的应用已经多样化,对各种设计的显示装置的需求已经增加。例如,对于智能电话,可以期望能够使非显示区域最小化的显示装置,并且传感器可以设置在显示区域处(例如,在显示区域中或在显示区域上),而不设置在非显示区域处(例如,在非显示区域中或在非显示区域上)。然而,在这种情况下,传感器会被显示面板的像素的金属层部分地隐藏,结果,传感器的感测灵敏度会减小(例如,会降低)。

在本背景技术部分中公开的上述信息是为了增强对本公开的背景的理解,因此,其可以包含不构成现有技术的信息。

发明内容

本公开的一个或更多个示例实施例涉及一种能够提高设置在显示区域处(例如,在显示区域中或在显示区域上)的传感器的感测灵敏度的感测单元(例如,感测电路或感测层)。

本公开的一个或更多个示例实施例涉及一种能够提高设置在显示区域处(例如,在显示区域中或在显示区域上)的传感器的感测灵敏度的显示装置。

本公开的一个或更多个示例实施例涉及一种驱动显示装置的方法,该显示装置能够提高设置在显示区域处(例如,在显示区域中或在显示区域上)的传感器的感测灵敏度。

本公开的一些示例实施例的附加方面和特征将在下面的描述中阐述,并且部分地通过下面的描述对于本领域技术人员而言将变得明显,或者可以通过实践本公开的一个或更多个示例实施例来获知。

根据本发明的一个或更多个示例实施例,一种感测电路包括:多个传感器电极;第一电容,在传感器电极之间;多个接近感测电极,与传感器电极电隔离;以及第二电容,在传感器电极中的至少一个传感器电极与接近感测电极之间。接近感测电极中的至少一个接近感测电极的密度小于传感器电极中的所述至少一个传感器电极的密度。

在示例实施例中,接近感测电极和传感器电极在平面图中可以具有网格结构;并且接近感测电极中的所述至少一个接近感测电极的网格孔尺寸可以大于传感器电极的网格孔尺寸。

在示例实施例中,感测电路还可以包括:虚设图案,与传感器电极和接近感测电极电隔离,并且被传感器电极中的一些传感器电极包围,并且接近感测电极中的所述至少一个接近感测电极的密度可以小于虚设图案中的至少一个虚设图案的密度。

在示例实施例中,接近感测电极和虚设图案在平面图中可以具有网格结构;并且接近感测电极中的所述至少一个接近感测电极的网格孔尺寸可以大于虚设图案的网格孔尺寸。

在示例实施例中,感测电路还可以包括:桥接件,与传感器电极电隔离,并且将接近感测电极中的在第一方向上相邻的接近感测电极彼此连接。

根据本发明的一个或更多个示例实施例,一种感测电路包括:多个传感器电极;第一电容,在传感器电极之间;以及虚设图案,与传感器电极电隔离,虚设图案被电浮置。虚设图案中的至少一个虚设图案的密度可以小于传感器电极中的至少一个传感器电极的密度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010834921.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top