[发明专利]一种波分复用器的耦合方法、装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 202010821097.8 申请日: 2020-08-14
公开(公告)号: CN112068253B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 邓磊;王靖宇;宋旭宇 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: G02B6/293 分类号: G02B6/293;G02B6/42;G02B6/43;H04J14/02
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 邵磊;张颖玲
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 波分复用器 耦合 方法 装置 电子设备
【权利要求书】:

1.一种波分复用器的耦合方法,应用于电子设备,所述电子设备包括至少一个光电探测器、波分复用器、第一光源和第二光源,所述波分复用器的滤光片的数量与所述光电探测器的数量相同,其特征在于,所述耦合方法包括:

基于所述第一光源对所述波分复用器的位置进行耦合;所述第一光源为固定波长光源;所述至少一个光电探测器基于所述波分复用器的至少一个滤光片的出射光得到响应电流值;

在基于所述第一光源对所述波分复用器的位置完成耦合的情况下,基于所述第二光源对所述波分复用器的位置进行耦合,以使所述至少一个光电探测器的响应电流值满足第一设定条件和所述至少一个滤光片的出射光的波长满足第二设定条件;所述第二设定条件表征所述滤光片的出射光的中心波长与设定波长的差值小于第一设定值;所述第二光源为波长可调光源。

2.根据权利要求1所述的耦合方法,其特征在于,所述基于所述第二光源对所述波分复用器的位置进行耦合,以使所述至少一个光电探测器的响应电流值满足第一设定条件和所述至少一个滤光片的出射光的波长满足第二设定条件,包括:

在基于所述第一光源对所述波分复用器的位置完成耦合的情况下,确定所述波分复用器的第一位置;

在所述波分复用器处于所述第一位置和所述第二光源发出的光作为所述滤光片的入射光的情况下,确定所述至少一个光电探测器的响应电流值与所述第二光源发出的光的波长的映射关系;所述第二光源的发射光的波长基于设定时间间隔变化;

基于所述映射关系确定所述至少一个滤光片中的每个滤光片的出射光的中心波长;

确定所述至少一个滤光片中的每个滤光片的出射光的中心波长与所述设定波长的差值;

在所述至少一个滤光片中的每个滤光片对应的差值均小于第一设定值且所述至少一个光电探测器中的每个光电探测器的响应电流值均大于第二设定值的情况下,确定所述至少一个光电探测器的响应电流值满足第一设定条件和所述至少一个滤光片的出射光的波长满足第二设定条件。

3.根据权利要求2所述的耦合方法,其特征在于,所述耦合方法还包括:

在所述至少一个滤光片中的任意一个滤光片对应的差值大于所述第一设定值的情况下,调整所述波分复用器的位姿,以使所述至少一个滤光片中的每个滤光片对应的差值均小于第一设定值且所述至少一个光电探测器中的每个光电探测器的响应电流值均大于所述第二设定值。

4.根据权利要求1所述的耦合方法,其特征在于,所述基于所述第一光源对所述波分复用器的位置进行耦合,包括:

在所述第一光源发出的光作为所述滤光片的入射光的情况下,将所述波分复用器调整至第二位置;在所述波分复用器处于所述第二位置的情况下,所述至少一个光电探测器中每个光电探测器的响应电流值均大于第二设定值;

在所述至少一个光电探测器中每个光电探测器的响应电流值均大于第二设定值的情况下,确定基于所述第一光源对所述波分复用器的位置完成耦合。

5.根据权利要求4所述的耦合方法,其特征在于,所述在所述第一光源发出的光作为所述滤光片的入射光的情况下,将所述波分复用器调整至第二位置,包括:

获取所述波分复用器的第一图像;

基于所述第一图像和第二图像对所述波分复用器的位置进行调整,以使所述波分复用器处于所述第二图像中的波分复用器的第三位置;

在所述波分复用器处于所述第三位置的情况下,确定所述至少一个光电探测器中每个光电探测器的响应电流值;

在所述至少一个光电探测器中的任意一个光电探测器的响应电流值小于所述第二设定值的情况下,调整所述波分复用器的位置,以使所述至少一个光电探测器中每个光电探测器的响应电流值均大于所述第二设定值,并将所述波分复用器的当前位置确定为所述第二位置。

6.根据权利要求5所述的耦合方法,其特征在于,所述耦合方法还包括:

在所述至少一个光电探测器中每个光电探测器的响应电流值均大于所述第二设定值的情况下,将所述第三位置确定为所述第二位置。

7.根据权利要求1所述的耦合方法,其特征在于,所述波分复用器为介质膜型波分复用器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光迅科技股份有限公司,未经武汉光迅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010821097.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top