[发明专利]一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺

说明书

本发明提供一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺，包含以下步骤：将镀有颜色层的金属件清洗后放入真空炉中，真空加热烘干；对该金属件进行离子清洗；关闭氩气和工件偏压，控制真空炉内真空度，使其内真空度维持在10^‑1 Pa数量级的动态平衡压强；控制真空炉内温度为100‑300℃，采用真空平面磁控溅射法依次为金属件镀上Si/Al过渡层和氧化硅/氧化铝透明绝缘层。本发明的一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺，采用物理气相沉积的原理，以真空平面磁控溅射法，在原有镀色金属件的外部镀上透明绝缘层，使金属件表面即能满足表面绝缘，又能满足金属件不同颜色的使用需求；且其工艺流程简单，环保，成本低。

技术领域

本发明涉及金属件镀层技术领域，具体涉及一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺。

背景技术

因3C金属外观件表面要求绝缘，通常只能在金属件的表面镀上一层金属碳化物来达到金属件表面绝缘的目的，但金属碳化物的颜色固定，由其作为镀层的金属件呈现的颜色单一，严重限制了作为消费类电子外观件对不同颜色的需求；而单纯的为金属件镀上各种颜色层，则达不到金属件表面绝缘以及金属件易腐蚀的问题。

发明内容

为解决上述现有技术中存在的问题，本发明提供一种既能满足金属件表面绝缘、又能满足金属件不同颜色的使用需求的金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺。

为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种金属件表面PVD镀透明绝缘膜工艺，包含以下步骤：

步骤S01、将镀有颜色层的金属件超声波清洗后放入真空炉中，将真空炉抽真空至其本底真空度为（1.0-6.0）*10^-3 Pa，将金属件加热烘干；

步骤S02、向上述真空炉内通入氩气，使其真空度达到 （5.0-9.0）*10^-1 Pa，硅/铝靶电流为0.1-0.5A或硅/铝靶电压为100-250V，工件偏压电压为200-600V，占空比为30%-80%，对金属件进行离子清洗；

步骤S03、关闭氩气和工件偏压，将真空炉抽真空至真空度为（1.0-6.0）*10^-3 Pa，随后，以50-500sccm的流量向真空室内通入氩气，使其内真空度维持在10^-1 Pa数量级的动态平衡压强；

步骤S04、控制真空炉内温度为100-300℃，采用真空平面磁控溅射法依次为金属件镀上Si/Al过渡层和氧化硅/氧化铝透明绝缘层，过渡层用于改性工件表面，提升透明绝缘层与工件的结合力。

进一步地，步骤S01中，金属件的烘干温度为100-300℃，烘干时间为30-90 min。

进一步地，步骤S02中氩气的通入流量为200-600sccm，金属件离子清洗时间为30-120min。

进一步地，步骤S04中，真空平面磁控溅射法镀膜的溅射电源为中频电源，其频率为20-180 KHz，功率为 20-60 KW。

进一步地，步骤S04中，过渡层和透明绝缘层镀膜时的靶电流为20-40A，靶电压为300-600V，镀膜时间为2-10min，工件偏压电压为0-200V，占空比为20%-80%。

进一步地，步骤S04中，透明绝缘层的层数为1-15层，单层的镀膜时间为10-180min。

进一步地，步骤S04中，透明绝缘层镀膜时，氮气的通入流量为50-500sccm，氧气的通入流量为40-100sccm。