[发明专利]一种光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率的测试方法在审
| 申请号: | 202010816380.1 | 申请日: | 2020-08-14 |
| 公开(公告)号: | CN112229987A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
| 发明(设计)人: | 崔淑杰;杨欣;贾宏平;李永强 | 申请(专利权)人: | 陕西彩虹新材料有限公司 |
| 主分类号: | G01N33/44 | 分类号: | G01N33/44 |
| 代理公司: | 北京卓特专利代理事务所(普通合伙) 11572 | 代理人: | 段宇 |
| 地址: | 712021 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 线性 酚醛树脂 溶解 速率 测试 方法 | ||
本发明涉及一种光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率的测试方法,包括如下步骤:样品的称量与溶解;样品溶液成膜;膜厚测量;碱溶解速率测量。本发明将一定量的线性酚醛树脂准确称量后溶解于特定溶剂中,将所得溶液在硅片上形成一定厚度的膜层,对膜层进行固化,测量特定位置的膜厚,对固化后的膜层进行显影,测量显影后的膜厚,通过计算出线性酚醛树脂碱溶解速率。本发明提供的测量方法具有快速性、准确性、代表性,可大规模应用于光刻胶的生产过程。
技术领域:
本发明属于光刻胶的技术领域,具体涉及一种光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率的测试方法。
背景技术:
光刻胶又称光致抗蚀剂,是利用光化学反应进行图形转移的媒体,它是一类品种繁多、性能各异、应用极为广泛的精细化学品。光刻胶主要应用于电子工业中集成电路和半导体分立器件的细微加工过程中,它利用光化学反应,经曝光、显影将所需要的微细图形从掩膜版上转移至待加工的基片上,然后进行刻蚀、扩散、离子注入、金属化等工艺。在光刻胶的生产过程,最重要的就是控制产品质量的一致性,而保证产品质量一致性的关键就是原材料的测量,线性酚醛树脂是光刻胶生产过程中最重要的原材料,碱溶解速率是配置光刻胶的关键技术指标。如何即快速又准确的测量光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率成为了关键。
发明内容:
为了保证光刻胶产品质量的一致性,本发明的目的在于提供了一种光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率的测试方法,该种方法具有快速性、准确性、代表性,可大规模应用于光刻胶的生产过程。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率的测试方法,其特征在于,包括下述步骤,
步骤S1)
树脂溶解:准确称量一定量的线性酚醛树脂,在30-40℃下,将其溶解于溶剂中,待完全溶解后,继续搅拌10-12小时,停止搅拌。
步骤S2)
树脂溶液成膜:将硅片放置在旋转涂膜仪上,用注射器吸取上述树脂溶液,滴在硅片的中心,打开旋转涂膜仪的真空开关,开始旋涂。旋转涂膜完成后,将硅片在热板上进行预烘烤,然后在真空干燥机中进行膜层固化。
步骤S3)
膜厚测量:将固化后的硅片测量九个位置的膜层厚度,测试位置参考图见图1,然后计算平均值,该平均值为显影前平均膜层厚度。
步骤S4)
碱溶解速率测量:将上述硅片放置在显影液中,浸泡一段时间后取出,用超纯水冲洗后,在烘箱中,110下干燥5min,将显影后的硅片测量九个位置的膜层厚度,然后计算平均值,该平均值为显影后平均膜层厚度;线性酚醛树脂碱溶解速率:
在一个实施例中,所述线性酚醛树脂与溶剂的质量比为1:(1-5)。
在一个实施例中,所述溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
在一个实施例中,所述预烘烤温度为85-95℃,时间为60-90s。
在一个实施例中,所述固化温度为120-130℃,时间为60-120s。
在一个实施例中,所述显影液为四甲基氢氧化铵(TMAH,2.38%)。
所述显影时间为25-45s。
由上可知,本发明的主要优点在于:
1、通过本发明可以快速准确的测量光刻胶用线性酚醛树脂碱溶解速率。
2、通过本发明可以保证光刻胶产品质量的一致性。
附图说明:
图1为硅片膜厚测量位置图;
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