[发明专利]一种子弹体、其制备方法及医疗器械

权利要求书

1.一种子弹体，用于在医疗器械中做往复运动，其特征在于，包括子弹体本体和涂覆于所述子弹体本体表面的复合膜层，所述复合膜层从里至外依次包括氮化物膜层、金属碳化物膜层和类金刚石膜层。

2.根据权利要求1所述的子弹体，其特征在于，所述氮化物膜层为Cr、Ti和Zr中的至少一种元素的氮化物形成的膜层；优选为CrN形成的膜层；

优选地，所述氮化物膜层的厚度为0.2um～1.5um。

3.根据权利要求1所述的子弹体，其特征在于，所述金属碳化物膜层是由金属膜层和碳化物膜层交替沉积得到的；

优选地，所述金属碳化物膜层中的所述金属膜层是由Zr、Ti、Cr和W中的至少一种所形成的膜层；所述金属碳化物膜层中的所述碳化物膜层是由ZrC、TiC、CrC和WC中的至少一种所形成的膜层；

更优选地，所述金属碳化物膜层中的所述金属膜层是由Cr形成的膜层；所述金属碳化物膜层中的所述碳化物膜层是由WC形成的膜层；

优选地，所述金属碳化物膜层的厚度为0.1um～1um。

4.根据权利要求1所述的子弹体，其特征在于，所述类金刚石膜层为非晶碳膜；优选地，所述类金刚石膜层选自金属掺杂非晶碳膜、含氢非晶碳膜和金属掺杂含氢非晶碳膜中的任意一种；

优选地，所述类金刚石膜层的厚度为0.5um～3um。

5.根据权利要求1所述的子弹体，其特征在于，在所述氮化物膜层和所述金属碳化物膜层之间还设置有金属膜层；

优选地，所述金属膜层为Cr、Ti、Zr和W中的至少一种金属所形成的膜层；更优选为Cr形成的膜层；

优选地，所述金属膜层的厚度为0.1um～1um。

6.根据权利要求5所述的子弹体，其特征在于，在所述金属碳化物膜层和所述类金刚石膜层之间还涂覆有带有掺杂物的类金刚石膜层，所述带有掺杂物的类金刚石膜层中的掺杂元素选自Cr、Ti、Zr和W中的至少一种；优选地，所述掺杂元素为W；

优选地，所述带有掺杂物的类金刚石膜层的厚度为0.2um～1.5um；

优选地，所述类金刚石膜层的表面粗糙度为Ra0.03～0.1um，膜基结合力为50～100N，摩擦系数为0.05～0.2，显微硬度为Hv2000～7000。

7.一种权利要求1～6中任一项所述子弹体的制备方法，其特征在于，包括：在所述子弹体本体上形成所述复合膜层。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述复合膜层中每一层的形成方式分别独立选自物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法和离子源镀膜法中的任意一种，其中，所述物理气相沉积法为磁控溅射法或电弧离子镀法；

优选地，所述氮化物膜层、金属膜层、所述金属碳化物膜层和带有掺杂物的类金刚石膜层均是采用磁控溅射法形成，所述类金刚石膜层是采用等离子体增强化学气相沉积法或离子源镀膜法形成；

优选地，在所述子弹体本体上进行涂覆之前，采用等离子体刻蚀的方法进行预处理。