[发明专利]光刻胶及亚胺类材料的图案化方法有效

专利信息
申请号: 202010815574.X 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN111880371B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 徐宏;何向明;王倩倩 申请(专利权)人: 常州华睿芯材科技有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 王勤思
地址: 213100 江苏省常州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 光刻 亚胺 材料 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻胶,其特征在于,包括:氨基化合物、醛基化合物、产酸剂和溶剂,所述产酸剂能够在紫外光下分解形成光酸催化剂,所述光酸催化剂能够催化所述氨基化合物和所述醛基化合物发生缩合反应形成亚胺类聚合物,所述氨基化合物选自1,4-二氨基环己烷、对苯二胺、2-三氟甲基对苯二胺、4,4’-二氨基联苯、3,4’-二氨基二苯醚、4,4’-二氨基-3,3’-二甲基联苯甲烷、2,2-双(4-氨基苯基)六氟丙烷、1,3,5-三对氨基苯基苯、四对氨基苯基甲烷及1,3,5,7-四氨基金刚烷中的一种或多种;所述醛基化合物选自间苯三甲醛、对苯二甲醛、2,4-二甲氧基对苯二甲醛、2,4-二乙氧基对苯二甲醛及2,4-二丙氧基对苯二甲醛中的一种或多种;所述产酸剂选自N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸、N-羟基琥珀酰亚胺三氟甲磺酸及N-羟基邻苯酰亚胺对甲苯磺酸中的一种或多种,所述光酸催化剂选自磺酸类;

所述氨基化合物在所述光刻胶中的质量百分数为0.4%~30%,所述醛基化合物在所述光刻胶中的质量百分数为0.5%~30%,所述产酸剂在所述光刻胶中的质量百分数为0.01%~8%;

所述氨基化合物和所述醛基化合物的比例,以氨基基团和醛基基团的摩尔量之比计,为5/1~1/5。

2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述溶剂选自1,4-二氧六环、三甲基苯、邻二氯苯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙酮、N,N-二甲基甲酰胺及N,N-二甲基乙酰胺中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶中的固含质量百分数为1.0%~45.0%。

4.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶中的固含质量百分数为为5%~30%。

5.一种亚胺类材料的图案化方法,其特征在于,包括以下步骤:

将如权利要求1~4任一项所述的光刻胶涂布在基底表面,除去所述光刻胶中的溶剂,在所述基底表面上形成预成膜层;

将紫外光源透过具有预设图案的掩膜照射在所述基底的预成膜层上进行曝光操作;

将显影剂施加在曝光后的预成膜层上,使得预成膜层上被掩膜遮挡的未曝光区域溶解于显影剂中,而预成膜层的曝光区域形成亚胺类聚合物而保留在基底上。

6.根据权利要求5所述的亚胺类材料的图案化方法,其特征在于,在紫外光源下进行曝光操作的曝光剂量为20mJ/cm2~1800mJ/cm2

7.根据权利要求5所述的亚胺类材料的图案化方法,其特征在于,所述显影剂选自1,4-二氧六环、三甲基苯、邻二氯苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸丁酯,丙酮、N,N-二甲基甲酰胺及N,N-二甲基乙酰胺中的一种或多种。

8.根据权利要求5所述的亚胺类材料的图案化方法,其特征在于,所述基底选自硅板。

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