[发明专利]一种行波微执行器位移放大结构在审
| 申请号： | 202010810914.X | 申请日： | 2020-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN111953229A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 孙翔宇;杜亦佳;王艺程;陈余;李小石;弓冬冬;杨天宇 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院电子工程研究所 |
| 主分类号： | H02N2/16 | 分类号： | H02N2/16;H02N2/12 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 苏士莹 |
| 地址： | 621054 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 行波 执行 位移 放大 结构 | ||
1.一种行波微执行器位移放大结构，其特征在于：包括齿条，所述齿条设置于行波微执行器的定子上，沿行波微执行器的定子的轴线方向，所述齿条凸出于行波微执行器的定子且朝向转子方向设置，所述齿条的顶面面积较行波微执行器的定子面积小。
2.根据权利要求1所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条的数量为多条，多条所述齿条绕行波微执行器的定子的轴线呈圆周状均布，相邻的所述齿条之间具有间隙，多条所述齿条能够覆盖行波波峰范围。
3.根据权利要求2所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条的轴向截面为扇面形，所述齿条为柱状结构。
4.根据权利要求3所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条的两个平面侧立面之间的夹角为2°，相邻的两条所述齿条之间的夹角为1°。
5.根据权利要求4所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条的长度为700μm，行波微执行器的定子的每个扇面上的所述齿条的数量为9条。
6.根据权利要求2所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条的高度大于500nm。
7.根据权利要求1所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条采用薄膜沉积技术制成，所述齿条由无机非金属化合物制成。
8.根据权利要求7所述的行波微执行器位移放大结构，其特征在于：所述齿条由SiO2、SiNx、Al2O3制成。
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