[发明专利]一种镀镍液添加剂、镀镍液及电镀工艺在审
申请号: | 202010805999.2 | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN111778530A | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 梁国柱;梁彪 | 申请(专利权)人: | 梁国柱;梁彪 |
主分类号: | C25D3/16 | 分类号: | C25D3/16;C25D5/00 |
代理公司: | 广州骏思知识产权代理有限公司 44425 | 代理人: | 卢娟 |
地址: | 510600 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀镍液 添加剂 电镀 工艺 | ||
一种镀镍液添加剂,包括主光剂、柔软剂和配位导电盐。所述镀镍液添加剂中的组分在高、中、低电流密度区各具特性,通过各组分的协同作用,主光剂可提高镍镀层的光亮度,柔软剂可提高镍镀层的光亮和整平度并调节镀层的应力,配位导电盐可细化镍层结晶,提高镀液的均镀能力和抗金属离子杂质污染能力,得到全光亮且整平的镍镀层。
技术领域
本发明属于电镀领域,具体涉及镀镍液添加剂、镀镍液及电镀工艺。
背景技术
电镀工艺主要有挂镀和滚镀两种类型。挂镀通常用于电镀高价或大件镀件。滚镀通常用于电镀小镀件。
镀镍是当今应用十分广泛的重要镀种,现有的镀镍工艺从镀液的酸碱性分,分为酸性镀镍液、碱性镀镍液和中性镀镍液三类。
(1)酸性镀镍液:在酸性镀镍液中,镍以带正电的水化镍离子形式存在。酸性镀镍液中,镍离子较易在阴极上放电沉积,允许使用的阴极电流密度区间宽广,容易获得全光亮和高整平的镀镍层,在强烈空气搅拌下,可承受8A/dm2的阴极电流,此时镀层的高光亮整平和高沉积速度的优异性能尤为突出。
(2)碱性镀镍液:在碱性镀镍液中,镍与配位剂生成电负性较强的络离子。在碱性环境下,镍络离子在阴极区极化较大又需分级放电电沉积,在较高电流密度下会析出氢气,使镀层产生脆性。因此碱性环境下光亮镀镍的阴极电流密度一般不超过2A/dm2。当镀液呈弱碱性,电镀时易在阳极上生成氢氧化镍,影响阳极溶解。
(3)中性镀镍液:在中性镀镍液中,镍离子与配位剂生成电负性中等强度的络离子。在中性环境下,镍络离子在阴极区极化较小。在滚镀的电流密度下,镍沉积有优秀的光亮和整平性。
在光亮滚镀镀镍工艺中,在酸性环境下锌离子等金属离子容易从镀件溶解到镀液中,导致镍镀层发暗变黑。中性镍液中,镍离子与配位剂生成电负性中等的络离子,适合用于锌铝合金或钢铁的滚镀镍生产;中性的镀液对锌杂质的容忍性能较宽,因此尤其适合锌铝合金的电镀加工。
电镀过程中,吸附在阴极或阳极上的各种化合物是不断消耗的,各种化合物在电极上的还原或氧化的速度是不尽相同的,因此,电镀液添加剂的组成是一个较为复杂的系统。在滚镀中,镀液的添加剂中的组分可形成协同作用,作用于不同的电流密度区,有利于得到光亮平整的镀层。
目前,现有技术只能在弱碱性或中性镀镍工艺中电镀得到半光亮的镀镍层,而如何在中性溶液中电镀得到全光亮、整平性高的镍镀层,是当今研究的一大热点问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的缺点与不足,提供一种镀镍液添加剂,在中性条件下使用本发明所述的镀镍液添加剂进行电镀镀镍,能够在镀件上得到全光亮、整平性高的镀镍层。
本发明是通过以下技术方案实现的:一种镀镍液添加剂,包括主光剂,所述主光剂包括主光剂第一组分,所述主光剂第一组分包括苯磺酰亚胺盐、炔类化合物、烷磺基吡啶嗡盐中的一种至三种;主光剂第二组分,所述主光剂第二组分包括炔烷基醚、炔基磺酸盐、烯烷基磺酸盐中的一种至三种;主光剂第三组分,所述主光剂第三组分包括炔胺类、硫氮杂环类中的一种至两种;主光剂第四组分,所述主光剂第四组分包括芳基磺酸盐、烯烷基磺酸盐、醛类中的一种至三种;主光剂第五组分,所述主光剂第五组分包括芳基磺酸盐、炔烷基醚、醛类中的一种至三种;主光剂第六组分,所述主光剂第六组分包括炔类嗡盐、丁醚嗡盐、炔胺类化合物、硫氮杂环化合物中的一种至四种;主光剂第七组分,所述主光剂第七组分包括表面活性剂;主光剂第八组分,所述主光剂第八组分包括醛类、炔类嗡盐、苄基-烷基炔醇吡啶内盐、烷基胺基丙炔中的一种至四种;
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