[发明专利]一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构有效
申请号: | 202010796677.6 | 申请日: | 2020-08-10 |
公开(公告)号: | CN111999873B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 李富强;蔡伟军;高卫军;范俊杰;丁世涛;李可;张凤芹;胡睿;汪洲;张占东 | 申请(专利权)人: | 北京空间机电研究所 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 李晶尧 |
地址: | 100076 北京市丰*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 线阵推扫型三反离轴 相机 抑制 结构 | ||
1.一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:包括主镜(1)、次镜(2)、三镜(3)、折镜(4)、焦面(5)、镜头框架(6)、次镜光阑板(7)、中间隔板(8)、折镜侧板(9)和焦面光阑板(10);其中,镜头框架(6)为中空长方体结构;主镜(1)和三镜(3)对称设置在镜头框架(6)一个侧壁处;次镜(2)和折镜(4)设置在与主镜(1)相对的镜头框架(6)侧壁处;焦面(5)设置在主镜(1)和三镜(3)之间;实现光线从主镜(1)进入镜头框架(6)后,依次经次镜(2)、三镜(3)、折镜(4)折射到达焦面(5);次镜光阑板(7)设置在次镜(2)处;焦面光阑板(10)设置在三镜(3)处;中间隔板(8)倾斜设置在镜头框架(6)的内腔中;折镜侧板(9)设置在镜头框架(6)的内壁,且位于靠近三镜(3)和折镜(4)的无镜侧壁;
所述次镜光阑板(7)实现抑制到达次镜(2)周围的杂散光;中间隔板(8)实现抑制主镜(1)周围反射到达折镜(4)的杂散光;折镜侧板(9)实现抑制中间隔板(8)漏掉的到达折镜(4)和三镜(3)侧面的杂散光;焦面光阑板(10)实现抑制到达焦面(5)的视场外的杂散光;
所述杂光抑制结构实现了相机的杂光系数小于2%。
2.根据权利要求1所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述次镜光阑板(7)为设置有通孔的板状结构;且次镜光阑板(7)通孔形状与次镜(2)对应;实现次镜光阑板(7)贴附在镜头框架(6)的内壁,且通过通孔将次镜(2)露出。
3.根据权利要求2所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述焦面光阑板(10)为设置有通孔的板状结构;且焦面光阑板(10)通孔形状与焦面(5)对应,实现焦面光阑板(10)贴附在镜头框架(6)的内壁,且通过通孔将焦面(5)露出。
4.根据权利要求3所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述中间隔板(8)为设置有通孔的板状结构;通孔尺寸采用实现通次镜(2)折射到达三镜(3)光路的最小尺寸。
5.根据权利要求4所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述中间隔板(8)的一端与镜头框架(6)内壁接触,且该端位于次镜(2)和折镜(4)之间;中间隔板(8)的另一端与焦面光阑板(10)接触,且该端位于主镜(1)和三镜(3)之间;中间隔板(8)实现将镜头框架(6)内腔分隔为2部分;中间隔板(8)的倾角a为0°-30°。
6.根据权利要求5所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述次镜光阑板(7)、中间隔板(8)、折镜侧板(9)和焦面光阑板(10)的表面采用超发黑处理或喷涂超黑涂层,表面的吸光率不小于0.97。
7.根据权利要求6所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述中间隔板(8)采用复合材料或铝合金材料;所述焦面光阑板(10)采用铝合金、复合材料或钛合金材料;所述次镜光阑板(7)采用铝合金或钛合金材料,次镜光阑板(7)的表面生长碳纳米管结构或车制截面为三角形的环形纹路;当次镜光阑板(7)表面车制截面为三角形的环形纹路时,纹路深度不大于1mm,相邻2个纹路的间距不大于1.5mm。
8.根据权利要求7所述的一种线阵推扫型三反离轴相机杂光抑制结构,其特征在于:所述折镜侧板(9)采用复合材料或钛合金材料;折镜侧板(9)的表面生长碳纳米管结构或车制截面为三角形的环形纹路;当折镜侧板(9)表面车制截面为三角形的环形纹路时,纹路深度不大于1mm,相邻2个纹路的间距不大于1.5mm。
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