[发明专利]微细结构转印装置以及微细结构转印方法

说明书

本发明提供微细结构转印装置以及微细结构转印方法，能够在片状体(膜)上固定多个复制品。微细结构转印装置(1)具备：卷绕具有挠性的片状体(4)并对该片状体(4)进行开卷的开卷机(5)；卷绕经由多个导辊(3)输送的片状体(4)的卷绕机(6)；配置在开卷机(5)与卷绕机(6)之间，并载置在形成有微细凹凸图案的表面涂敷有光固化性树脂的模型(14)的载置台(11)；从上方将片状体(4)按压于模型(14)，并且至少在模型(14)的两端部之间往复移动的压印辊(2)；以及向被按压于模型(14)的片状体(4)照射紫外光的固化光照射器(8)，在片状体(4)上连续地固定多个复制品(20)。

技术领域

本发明涉及使用在表面形成有纳米级等的微细凹凸图案的模型在基板上反转转印微细结构的微细结构转印装置以及微细结构转印方法。

背景技术

作为用于制造半导体的曝光装置等的微细加工技术的紫外线/电子束光刻，设备价格高且工艺复杂，在制造所花费的时间和成本的改善等方面存在问题，随着将形成有微细凹凸图案的模型(也被称为压模或模板等)直接转印到树脂材料等的纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography，以下称为NIL)技术的进展，能够通过简单的装置和工艺容易地实现10nm～数100nm级的微细图案，在装置价格、量产中的成本方面优势提高。例如，在专利文献1中，公开了针对模型利用无电解镀覆法对形成于模型的表面的微细凹凸图案进行反转转印而得到的微细结构体。尤其是，在专利文献1中记载有如下内容：在所得到的微细结构体的上表面(与形成有微细凹凸图案的面相反的一侧的面)配置缓冲材料，在微细凹凸图案的表面涂敷剥离剂而形成压模。

另外，在专利文献2中提出了如下的NIL装置：为了改善加热加压转印中的升温、冷却循环所花费的时间，使保持基板加压面的部位的截面积比压模的基板加压面的截面积小。在专利文献3中公开了如下的NIL装置：通过设置具备临时载置基板的临时载置面并使其逐渐移动至基板载置面的临时载置部件，从而能够防止基板与基板载置台之间的空隙导致的错位，实现高精度的转印。

在专利文献4中提出了如下的辊对辊方式的NIL装置：以更高精度的转印为目的，在加热加压时能够依次更换缓冲材料。

另外，在专利文献5中公开了如下方式的NIL装置：以提高生产率并降低量产成本为目的，利用多级地设置的辊将压模加热加压于树脂层并进行转印，以使得即便转印辊的旋转速度上升也能够正确且高精度地进行图案转印。

另外，作为使用光固化性树脂的NIL装置，例如，在专利文献6中公开了如下的NIL装置：将模型按压于使用了由紫外线固化性树脂构成的薄膜的工件而进行压缩成形，照射紫外光进行图案转印，其中，作为紫外光的光源，通过使用不与紫外光同时连续地放射热线的光源，来抑制温度上升。另外，在专利文献7中公开了如下的NIL装置：通过辊对辊方式，送出具有粘接固定有透明膜的光固化性转印层的光固化性转印片，在使光固化性转印层露出后，利用压模进行按压，利用UV灯进行光照射，转印压模的微细凹凸图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-189128号公报

专利文献2：日本特开2004-288784号公报

专利文献3：日本特开2006-62208号公报

专利文献4：日本特开2004-288804号公报

专利文献5：日本特开2006-326948号公报

专利文献6：WO2009/110596号公报

专利文献7：日本特开2011-66100号公报

发明要解决的课题