[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 202010782878.0 申请日: 2020-08-06
公开(公告)号: CN112002691B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 韩广涛;王炜槐;胡涛 申请(专利权)人: 杰华特微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;李镇江
地址: 310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,其特征在于,包括:

衬底;

阱区,位于所述衬底上;

源端注入区和漏端注入区,沿所述阱区上表面的横向方向间隔设置在所述阱区上表面;

栅结构,设置在所述阱区上,位于所述源端注入区和所述漏端注入区之间,

其中,所述漏端注入区上设置有漏端接触孔和位于所述漏端接触孔与所述栅结构之间的开孔,所述漏端接触孔为多个,所述开孔为多个,所述开孔与所述漏端接触孔匹配对应,所述漏端接触孔和所述开孔均在所述阱区上表面的纵向方向间隔分布,

在所述阱区上表面的纵向方向上,多个所述开孔的尺寸由中间向两端渐变。

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,

所述开孔的尺寸渐变包括沿所述阱区上表面的横向方向的长度尺寸渐变。

3.根据权利要求1或2所述的半导体器件,其特征在于,

在所述阱区上表面的纵向方向上,多个所述开孔的尺寸由中间向两端逐渐减小。

4.根据权利要求3所述的半导体器件,其特征在于,

在所述阱区上表面的纵向方向上,多个所述漏端接触孔至所述栅结构的距离由中间向两端逐渐变小。

5.根据权利要求4所述的半导体器件,其特征在于,

多个所述开孔的朝向所述栅结构的第一边和朝向所述漏端接触孔的第二边中的至少一个对齐。

6.根据权利要求5所述的半导体器件,其特征在于,

各所述开孔的第一边至所述栅结构的距离相等。

7.根据权利要求5或6所述的半导体器件,其特征在于,

所述栅结构的各部分在所述阱区上表面的横向方向上的长度相等。

8.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,

所述漏端接触孔通过漏端电极连接为一体,所述漏端电极包括电引出部分,在所述阱区上表面的纵向方向上,所述多个开孔的尺寸由所述电引出部分向两侧逐渐变小。

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