[发明专利]一种适用于高浓度废水的层叠式双螺旋光催化净化器

说明书

本发明公开了一种适用于高浓度废水的层叠式双螺旋光催化净化器，回转净化盘横向安装在外箱内部中端，两两回转净化盘之间均设置紫外光照装置，回转净化盘上均开设回转净化盘漏水孔，回转净化盘上均开设一个单向通道，回转净化盘漏水孔位于单向通道末端；以位于上方相邻的回转净化盘作为参考物位于下方相邻的回转净化盘顺时针旋转九十度或一百八十度，位于上方相邻的回转净化盘的回转净化盘漏水孔在位于下方相邻的回转净化盘的单向通道的首端上方，回转净化盘上表面由内向外涂覆有机硅树脂层和纳米二氧化钛膜。污水从回转净化盘的一角经过多次循环流至盘中心，然后再回旋流至回转净化盘的另一角，极大的提高了水力停留时间，提升了污染的降解效率。

技术领域

本发明涉及一种适用于高浓度废水的层叠式双螺旋光催化净化器，属于污水净化处理技术领域。

背景技术

随着高速发展的工业农业，人类活动带来的污染物严重污染了自然环境，其中，水环境保护成为不容忽视的问题，目前，水体污染源主要包括有工业污染源、生活污染源和农业污染源。大量的污水通过各级河渠系统进入到江河湖海等水体，在较长时期内污染物浓度已经超过了这些水体的自净范围，从而导致水体水质的严重恶化。此外，一些如医疗废水，实验室废水等小排量高浓度有机废水，也因其难降解，毒性大，污染物种类复杂多样的特点而对水体环境造成严重危害。如果不能有效的将此类有机污染物从水体中去除，将会严重威胁到人民的生命安全及周边生物的正常生存。因此这些污染物的处理一直是水环境工作者的努力重点。由于此类污染物难以被动植物吸收降解，也很难用传统的氧化方法去除，因此开发新型适用于小排量高浓度废水的净化装置来处理此类难降解污染物对目前生态保护及社会可持续发展有着重要的意义。

近年来半导体光催化剂技术日益成为环境净化的研究热点，光催化材料在一定的光照条件下可以将各类有机污染物进行分解、转化和矿化，被认为是解决环境污染问题的一条有效途径。但光催化的实际应用易受外界环境因素影响，水下光的利用率即为光催化降解效率的一个重要限制因素。众所周知，随着水体深度的增加，紫外光与可见光迅速衰减，这极大的限制了光催化材料在水体中的催化降解能力，因此光源问题是在水体中实施光催化降解技术的主要应用瓶颈。此外，光催化在实际水体中的应用还存在着水力停留时间较短，污染物与光催化剂接触不完全，难降解污染物无法被充分矿化等问题。因此，有效提高光催化净化装置的光源辐照效率及延长水力停留时间，增大污染物与光催化剂的接触面积，对解决目前水环境中难降解污染物，以及对我国的水污染治理具有重大意义。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种适用于高浓度废水的层叠式双螺旋光催化净化器，旨在克服光催化水质净化装置中净化载体辐照强度低、光照反应面积小、水力停留时间短、水体中污染物在载体材料中对流扩散困难等问题，从而进一步扩大光催化的应用范围，提高其水质净化能力。

为达到上述目的，本发明提供一种适用于高浓度废水的层叠式双螺旋光催化净化器，包括外箱、若干个回转净化盘和紫外光照装置，

外箱内部中空，若干个回转净化盘横向安装在外箱内部中端，若干个回转净化盘从上向下排列，两两回转净化盘之间均设置紫外光照装置，回转净化盘上均开设回转净化盘漏水孔，若干个回转净化盘上均开设一个单向通道，回转净化盘漏水孔位于单向通道末端；以位于上方相邻的回转净化盘作为参考物位于下方相邻的回转净化盘顺时针旋转九十度或一百八十度，位于上方相邻的回转净化盘的回转净化盘漏水孔位于在下方相邻的回转净化盘的单向通道的首端，回转净化盘上表面由内向外涂覆有机硅树脂层和纳米二氧化钛膜。

优先地，包括两个隔水板，隔水板为螺旋形的直角板材，两个隔水板按等间距双螺旋方式将回转净化盘内部分隔成一个单向通道，以位于上方相邻的回转净化盘作为参考物位于下方相邻的回转净化盘顺时针旋转一百八十度，隔水板表面由内向外涂覆有机硅树脂层和纳米二氧化钛膜。